特許
J-GLOBAL ID：200903091772111453

塗布膜の乾燥方法及び装置

発明者：
石塚 誠治

石塚 誠治 について

, 
片桐 良伸

片桐 良伸 について

, 
安藤 豊

安藤 豊 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-316693
公開番号（公開出願番号）：特開2005-081256
出願日： 2003年09月09日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：
【課題】有機溶剤を含む塗布液をウエブに塗布して形成した塗布膜の乾燥時における乾燥ムラを顕著に低減することができる。【解決手段】走行する長尺状のウエブ12に有機溶剤を含む塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥方法において、塗布直後に走行するウエブ12の塗布膜面を囲んだ乾燥ゾーン16を形成し、乾燥ゾーン16内では先ず乾燥風を吹かないで塗布膜の塗布液粘度が塗布時における塗布液粘度の1.5倍になるまで塗布膜を乾燥する無風乾燥を行い、次に乾燥風を吹いて塗布膜を乾燥する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
走行する長尺状の支持体に有機溶剤を含む塗布液を塗布して形成した塗布膜の乾燥方法において、 前記塗布直後に前記走行する支持体の4方向を囲んだ乾燥ゾーンを形成し、前記乾燥ゾーン内では先ず乾燥風を吹かないで前記塗布膜の塗布液粘度が前記塗布時における塗布液粘度の少なくとも1.5倍になるまでは前記塗布膜を乾燥する無風乾燥を行い、次に乾燥風を吹いて前記塗布膜を乾燥することを特徴とする塗布膜の乾燥方法。
IPC (7件)：
B05D3/02 ,  B05C9/12 ,  B05C9/14 ,  B05D7/00 ,  F26B13/10 ,  F26B21/12 ,  G02B5/30
FI (7件)：
B05D3/02 Z ,  B05C9/12 ,  B05C9/14 ,  B05D7/00 A ,  F26B13/10 C ,  F26B21/12 ,  G02B5/30
Fターム (40件)：
2H049BA06 ,  2H049BC01 ,  3L113AA02 ,  3L113AB02 ,  3L113AC31 ,  3L113AC48 ,  3L113AC49 ,  3L113AC52 ,  3L113AC53 ,  3L113BA28 ,  3L113CB23 ,  3L113DA24 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB33Z ,  4D075BB38Z ,  4D075BB91Z ,  4D075BB95Z ,  4D075CA48 ,  4D075DA04 ,  4D075DB06 ,  4D075DB07 ,  4D075DB18 ,  4D075DB33 ,  4D075DB36 ,  4D075DB38 ,  4D075DB48 ,  4D075DB53 ,  4D075DC24 ,  4D075DC27 ,  4D075EA07 ,  4D075EC07 ,  4D075EC30 ,  4D075EC35 ,  4D075EC54 ,  4F042AA22 ,  4F042BA03 ,  4F042DB10 ,  4F042DB13 ,  4F042DC01 ,  4F042DC03
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 塗布乾燥方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-335765   出願人：コニカ株式会社
  • 塗布膜の乾燥方法及び装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-359392   出願人：富士写真フイルム株式会社
審査官引用 (6件)
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