真空処理装置および工作物の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：深見久郎 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-620147
公開番号（公開出願番号）：特表2003-500533
出願日： 2000年05月22日
公開日（公表日）： 2003年01月07日
要約：

【要約】真空処理装置の真空処理室内に、前記室および処理領域(BB)内の処理雰囲気(U)を提供する機関(22)が設けられる。センサ配置(24)が、処理領域内を瞬間的に占める処理雰囲気を検知する。センサ配置(24)は制御回路において実際値測定器として機能し、機関(22)の一つは調整要素として機能する。工作物は室内の処理領域(BB)を通過する。処理領域(BB)内の処理雰囲気(U)は時間中、前記機関の一つを援用することにより所与の特性(M)にしたがって調整される。

請求項（抜粋）：

真空処理室と、処理領域(BB)内の処理雰囲気(U)を提供する機関(22)と、処理領域を瞬間的に占める処理雰囲気(U)を検知するセンサ配置(24)とを備え、センサ配置は実際値測定器であり、機関のうち少なくとも一つは処理領域内の処理雰囲気のための制御回路の調整要素であり、さらに室内の処理領域を通過する工作物キャリヤとを備える真空処理装置であって、機関(22)の少なくとも一つが工作物キャリヤの位置(Xs)の関数で、処理領域(BB)内の処理雰囲気(U)を所与の特性(M)に従って調整することを特徴とする、装置。

Fターム (10件)：

4K029CA06 , 4K029DA03 , 4K029DC03 , 4K029DC18 , 4K029DC34 , 4K029DC39 , 4K029EA03 , 4K029EA04 , 4K029EA05 , 4K029JA02

引用特許：

審査官引用 (6件)

PVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-210945 出願人：株式会社神戸製鋼所
特開平2-277770
特開平3-264667

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