インライン式スパッタ装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宮▼崎▲ 主税
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-248719
公開番号（公開出願番号）：特開2002-060938
出願日： 2000年08月18日
公開日（公表日）： 2002年02月28日
要約：

【要約】【課題】膜厚分布の制御を容易にかつ高精度に行い得るインライン式スパッタ装置を得る。【解決手段】ターゲットの前を基板が通過しつつ成膜が行われるインライン式スパッタ装置において、成膜室内において、ターゲットと通過される基板との間に配置されており、基板通過方向においてターゲットの両側に対向配置された第1,第2の膜厚分布補正板11,12を備え、第1,第2の膜厚分布補正板11,12が、それぞれ、複数の可動プレートを有し、第1,第2の膜厚分布補正板の対応する可動プレートが対称に移動されるように、第1,第2の膜厚分布補正板に連結されたプレート駆動手段がさらに備えられている、インライン式スパッタ装置1。

請求項（抜粋）：

基板がターゲットの前を通過して該基板上に成膜が行われるインライン式スパッタ装置であって、成膜室と、前記成膜室内に配置されており、基板が通過する方向に沿って配置されたターゲットと、前記ターゲットと、通過される基板との間に配置されており、かつ基板通過方向においてターゲットの両側に対向配置された第1,第2の膜厚分布補正板とを備え、前記第1,第2の膜厚分布補正板が、それぞれ、複数の可動プレートを有し、前記第1,第2の膜厚分布補正板の対応する可動プレートを対称に移動させることを可能とするように、前記第1,第2の膜厚分布補正板に連結されたプレート駆動手段をさらに備えることを特徴とする、インライン式スパッタ装置。

IPC (2件)：

C23C 14/34 , H01L 21/203

FI (2件)：

C23C 14/34 V , H01L 21/203 S

Fターム (9件)：

4K029CA05 , 4K029DC00 , 4K029KA03 , 5F103AA08 , 5F103BB13 , 5F103BB36 , 5F103BB44 , 5F103BB53 , 5F103BB58

引用特許：

審査官引用 (5件)

スパッタリング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-320396 出願人：ソニー株式会社
機能性フィルムの成膜装置及び成膜方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-307937 出願人：凸版印刷株式会社
特許第2789194号

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