特許

J-GLOBAL ID：200903091833843339

フォトレジスト用化合物およびフォトレジスト用樹脂組成物

発明者： 堤 聖晴 ,  糸数 輝雄
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-062435
公開番号（公開出願番号）：特開2002-265530
出願日： 2001年03月06日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：

【要約】【課題】 均質性に優れ、解像度の高い微細パターンを得ることのできるフォトレジスト用樹脂を得る。【解決手段】 下記式(1)【化1】(上式において、Raは水素原子又はメチル基を示し、R1は炭素数1〜10の炭化水素基を示す)で表される化合物を提供する。

請求項（抜粋）：

下記式(1)【化1】(上式において、Raは水素原子又はメチル基を示し、R1は炭素数1〜10の炭化水素基を示す)で表される化合物。

IPC (11件)：

C08F 20/18 ,  C07C 69/54 ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/04 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (11件)：

C08F 20/18 ,  C07C 69/54 B ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/04 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (53件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BC13 ,  2H025BC34 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  4H006AA01 ,  4H006AB46 ,  4H006BJ30 ,  4J002BG031 ,  4J002BG071 ,  4J002BH021 ,  4J002BK001 ,  4J002EB116 ,  4J002EQ016 ,  4J002EU186 ,  4J002EV246 ,  4J002EV326 ,  4J002EW176 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J100AJ02Q ,  4J100AJ02R ,  4J100AK32Q ,  4J100AL01Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AQ01Q ,  4J100AR09Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA20Q ,  4J100BA20R ,  4J100BC07P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (2件)

• フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-223110   出願人：ダイセル化学工業株式会社
• ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-188853   出願人：日本電気株式会社