特許
J-GLOBAL ID:200903091833843339
フォトレジスト用化合物およびフォトレジスト用樹脂組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-062435
公開番号(公開出願番号):特開2002-265530
出願日: 2001年03月06日
公開日(公表日): 2002年09月18日
要約:
【要約】【課題】 均質性に優れ、解像度の高い微細パターンを得ることのできるフォトレジスト用樹脂を得る。【解決手段】 下記式(1)【化1】(上式において、Raは水素原子又はメチル基を示し、R1は炭素数1〜10の炭化水素基を示す)で表される化合物を提供する。
請求項(抜粋):
下記式(1)【化1】(上式において、Raは水素原子又はメチル基を示し、R1は炭素数1〜10の炭化水素基を示す)で表される化合物。
IPC (11件):
C08F 20/18
, C07C 69/54
, C08F220/18
, C08F220/26
, C08F222/06
, C08F232/08
, C08K 5/00
, C08L 33/04
, G03F 7/027
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
FI (11件):
C08F 20/18
, C07C 69/54 B
, C08F220/18
, C08F220/26
, C08F222/06
, C08F232/08
, C08K 5/00
, C08L 33/04
, G03F 7/027
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
Fターム (53件):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA09
, 2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BC13
, 2H025BC34
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB10
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 4H006AA01
, 4H006AB46
, 4H006BJ30
, 4J002BG031
, 4J002BG071
, 4J002BH021
, 4J002BK001
, 4J002EB116
, 4J002EQ016
, 4J002EU186
, 4J002EV246
, 4J002EV326
, 4J002EW176
, 4J002FD206
, 4J002GP03
, 4J100AJ02Q
, 4J100AJ02R
, 4J100AK32Q
, 4J100AL01Q
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AQ01Q
, 4J100AR09Q
, 4J100BA11Q
, 4J100BA11R
, 4J100BA20Q
, 4J100BA20R
, 4J100BC07P
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC53Q
, 4J100BC53R
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100JA38
引用特許:
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