特許

J-GLOBAL ID：200903059896717456

フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物

発明者： 舩木 克典 ,  堤 聖晴 ,  宝来 晃 ,  井上 慶三
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-223110
公開番号（公開出願番号）：特開2001-048931
出願日： 1999年08月05日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：

【要約】【課題】 優れた透明性、アルカリ可溶性及び密着性を具備するだけでなく、高いエッチング耐性をも備えた高分子化合物を得る。【解決手段】 下記式(I)、(II)及び(III)【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2及びR3は、水素原子、ヒドロキシル基又は-COOR4基を示し、R4はt-ブチル基、2-テトラヒドロピラニル基などを示す。R5及びR6は、水素原子、ヒドロキシル基又はオキソ基を示す。R7、R8及びR9は、水素原子又はメチル基を示す)から選択された少なくとも1種のモノマー単位を含む[但し、式(III)のモノマー単位を含む場合などには、下記式(IV)【化2】(式中、R10及びR11は、水素原子、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を示し、R12はヒドロキシル基、オキソ基又はカルボキシル基を示す。R1は前記に同じ)で表されるモノマー単位などから選択された少なくとも1種のモノマー単位をも含む]高分子化合物。

請求項（抜粋）：

下記式(I)、(II)及び(III)【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2及びR3は、同一又は異なって、水素原子、ヒドロキシル基又は-COOR4基を示し、R4はt-ブチル基、2-テトラヒドロフラニル基、2-テトラヒドロピラニル基又は2-オキセパニル基を示す。R5及びR6は、同一又は異なって、水素原子、ヒドロキシル基又はオキソ基を示す。R7、R8及びR9は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示す)から選択された少なくとも1種のモノマー単位を含む[但し、式(II)のうち、R5=R6=Hであるモノマー単位を含む場合、又は式(III)のモノマー単位を含む場合には、前記式(I)で表されるモノマー単位、前記式(II)のうちR5及びR6の少なくとも一方がヒドロキシル基又はオキソ基であるモノマー単位、及び下記式(IV)【化2】(式中、R10及びR11は、同一又は異なって、水素原子、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を示し、R12はヒドロキシル基、オキソ基又はカルボキシル基を示す。R1は前記に同じ)で表されるモノマー単位から選択された少なくとも1種のモノマー単位をも含む]高分子化合物。

IPC (3件)：

C08F 20/10 ,  C08L 33/04 ,  G03F 7/039 601

FI (3件)：

C08F 20/10 ,  C08L 33/04 ,  G03F 7/039 601

Fターム (61件)：

2H025AA00 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC05 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002EQ036 ,  4J002ER006 ,  4J002EV196 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002EV316 ,  4J002EW056 ,  4J002EY026 ,  4J002FD146 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J100AJ02T ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA03T ,  4J100BA11P ,  4J100BA11R ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15T ,  4J100BA16P ,  4J100BA16T ,  4J100BA20Q ,  4J100BA20T ,  4J100BC07T ,  4J100BC08T ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC09T ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53S ,  4J100BC53T ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-152862   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 感光性組成物及びパタ-ン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-070591   出願人：株式会社東芝
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-238542   出願人：住友化学工業株式会社
• レジスト用樹脂、レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-224538   出願人：株式会社東芝
• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-211369   出願人：富士写真フイルム株式会社
• フォトレジスト用化合物およびフォトレジスト用樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-135624   出願人：ダイセル化学工業株式会社