特許

J-GLOBAL ID：200903091977707340

レジスト除去方法

発明者： 林 俊司
出願人/特許権者： 宮崎沖電気株式会社 ,  沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 敏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-198535
公開番号（公開出願番号）：特開平6-045292
出願日： 1992年07月24日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、半導体装置の製造におけるレジストの除去方法、中でもアッシングの際の使用ガスに関するもので、特に高ドーズレジストを除去する場合、アッシングのときの反応熱により発生するバーストを防止し、レジストの残渣の発生、チャンバの汚染を除去することを目的とする。【構成】 本発明は前記目的のため、アッシングの際使用するガスを、O2 ガスに不活性ガス(ArやHeガス)を50%以上添加するようにしたものである。その結果、前記反応熱を下げることができ、図1に示すようにバースト発生が起こらない範囲でアッシングできる。

請求項（抜粋）：

半導体装置の製造工程において、半導体基板上に形成したレジストを除去する際、O2 ガスに不活性ガスを添加してアッシングすることを特徴とするレジスト除去方法。

IPC (2件)：

H01L 21/302 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-171784   出願人：シチズン時計株式会社
• 特開平4-065827
  
• レジストのアッシング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-074115   出願人：住友金属工業株式会社
• 特開昭54-049072