特許
J-GLOBAL ID：200903092009633879
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-002066
公開番号（公開出願番号）：特開2009-164033
出願日： 2008年01月09日
公開日（公表日）： 2009年07月23日
要約：
【課題】生産性に優れたウェットプロセスで発光効率が高く、長寿命な有機EL素子を安定に製造可能な有機EL素子の製造方法及び該製造方法により製造された有機エレクトロルミネッセンス素子、該素子を具備した表示装置及び照明装置を提供する。【解決手段】発光層が低分子の発光ホスト化合物と低分子の発光ドーパント化合物を含有し、発光層を含む有機層が有機材料を溶媒に溶解または分散させた溶液を1.0×104Pa以上塗布する工程により形成され、少なくとも最後の塗布工程後に1.0×104Pa以上、不活性ガス雰囲気下で関係式(I)を満たす温度(T)の条件で加熱処理を行うことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。(I)全塗布工程で用いた溶媒の中で最も高い沸点温度<T<最後の塗布工程後に基板上に積層されている2層以上の有機層において、各有機層の質量比70%以上を構成する有機材料の中で最も低いガラス転移温度【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基板上に少なくとも陽極、陰極及び該陽極と陰極間に発光層を含む複数の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、
該発光層が低分子の発光ホスト化合物と少なくとも1種の低分子の発光ドーパント化合物を含有し、且つ、前記発光層を含む少なくとも2層の有機層が有機材料を溶媒に溶解または分散させた溶液を1.0×104Pa以上の圧力条件下で1層ずつ塗布する工程により形成され、且つ、少なくとも最後の塗布工程後に1.0×104Pa以上の圧力条件、不活性ガス雰囲気下で下記の関係式(1)を満たす温度(T)の条件で加熱処理を行うことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
関係式(1):全塗布工程で用いた溶媒の中で最も高い沸点(°C)<T<最後の塗布工程後に基板上に積層されている2層以上の有機層において、各有機層の質量比70%以上を構成する有機材料の中で最も低いガラス転移温度
IPC (3件)：
H05B 33/10
, H01L 51/50
, C09K 11/06
H05B33/10
, H05B33/14 B
, C09K11/06 660
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107BB02
, 3K107BB03
, 3K107CC04
, 3K107CC21
, 3K107DD53
, 3K107DD59
, 3K107DD64
, 3K107DD67
, 3K107DD68
, 3K107DD69
, 3K107DD70
, 3K107FF05
, 3K107FF13
, 3K107GG06
, 3K107GG28
, 4H050AA03
, 4H050AB92
, 4H050WB11
, 4H050WB14
