特許

J-GLOBAL ID：200903092112406767

フォトマスクブランク

発明者： フレンチ,ロジヤー・ハークエイル ,  シヤープ,ケネス・ジヨージ
出願人/特許権者： イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
代理人 (1件)： 小田島 平吉 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-504442
公開番号（公開出願番号）：特表2000-514205
出願日： 1997年06月30日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】伝送の、減衰された、埋め込まれた、位相器フォトマスクブランクは少なくとも1つの重合体材料、好ましくは非晶性フルオロ重合体または弗素官能基化された有機シラン及び有機シリケートのドープされた非晶性フルオロ重合体、或いはこれらの組合わせ物を含んでなる。但し該重合体材料は、(a)400nm以下の選択されたリソグラフ波長において1.2〜2.0、好ましくは1.26〜1.8の範囲の屈折率(n)、及び(b)400nm以下の選択されたリソグラフ波長において0.04〜0.8、好ましくは0.06〜0.59の範囲の吸光係数(k)、を有する。

請求項（抜粋）：

(a)400nm以下の選択されたリソグラフ波長において1.2〜

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ハーフトーン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスクの作製に用いる半透明部形成材料、及びハーフトーン型位相シフトマスクの作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-118121   出願人：ソニー株式会社
• 露光マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-294540   出願人：株式会社東芝