特許
J-GLOBAL ID：200903092187333439
マスクパターンの補正システム及びマスクパターンの補正方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-271342
公開番号（公開出願番号）：特開2001-092112
出願日： 1999年09月24日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
要約：
【要約】【課題】 OPEに対して電気的測定を用いて高精度なマスク補正ができるマスクパターンの補正方法を提供する。【解決手段】 補正テーブル導出用のTEGを作製し(S101)、電気抵抗を測定する(S102)。そして、配線幅、配線間隔毎に、配線幅に対する電気抵抗の一次の相関係数である補正ファクタ(S103)と設計寸法変動量(S104)を算出する。設計寸法変動量を配線間隔に対して補間するとともに(S105)、設計寸法補正量に変換し(S106)、整数値となる配線間隔の値を抽出する(S107)。このことにより、マスクパターンの補正に使用する補正テーブルを作成する(S108)。
請求項（抜粋）：
半導体基板上に形成されたパターンの抵抗値とマスクパターンのパターンの幅との相関係数を算出する補正ファクタ算出部と、設計ルールにおける抵抗値に対する前記配線抵抗のマスクパターンの一辺当たりの差を前記相関係数で除して設計ルールに対する設計寸法変動量を算出する設計寸法変動量算出部と、前記設計寸法変動量を、マスクパターンを作製する描画装置の最小描画グリッドを単位とする設計寸法補正量に変換する設計寸法補正量変換部と、前記設計寸法補正量が整数となるマスクパターン間隔の値を抽出するマスクパターン間隔抽出部と、前記マスクパターン間隔の値と前記設計寸法補正量とで補正テーブルを作成する補正テーブル作成部と、前記補正テーブルを保管する補正テーブル記録部と、前記素子のマスクパターン幅とマスクパターン間隔の設計値を保管するTEG情報記録部と、を有することを特徴とするマスクパターンの補正システム。
Fターム (2件)：
引用特許：
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