特許
J-GLOBAL ID：200903092189158731
ナノ構造体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
渡辺 望稔
, 三和 晴子
, 福島 弘薫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-221625
公開番号（公開出願番号）：特開2007-030146
出願日： 2005年07月29日
公開日（公表日）： 2007年02月08日
要約：
【課題】高純度アルミニウム上に発生する目視可能な傷を除去し鏡面状態にした後,陽極酸化をおこない、陽極酸化ナノ構造体の表面の平坦性を向上させ,簡易な工程で光学デバイスや磁気デバイスなどの電磁気的デバイスに応用可能な、広い面積で規則化された構造体を得ることができる製造方法を提供する。 【解決手段】99.9%以上の純度のアルミニウム基板を、少なくとも機械的研磨し、算術平均粗さRaを0.1μm以下、かつ表面光沢度60%以上とし、さらに陽極酸化する、マイクロポアを表面に有するナノ構造体の製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
99.9%以上の純度のアルミニウム基板を、少なくとも機械的研磨し、算術平均粗さRaを0.1μm以下、かつ表面光沢度60%以上とし、さらに陽極酸化する、マイクロポアを表面に有するナノ構造体の製造方法。
IPC (5件)：
B82B 3/00
, C25D 11/04
, C25D 11/16
, C25D 11/18
, B82B 1/00
B82B3/00
, C25D11/04 302
, C25D11/16 301
, C25D11/18 311
, C25D11/18 312
, B82B1/00
