特許

J-GLOBAL ID：200903092294829617

グラフェンシートの製造方法

発明者： 橋本 明弘
出願人/特許権者： 国立大学法人福井大学
代理人 (1件)： 高島 敏郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-261188
公開番号（公開出願番号）：特開2009-091174
出願日： 2007年10月04日
公開日（公表日）： 2009年04月30日
要約：

【課題】 幅や長さ、膜厚の調整が容易で、かつ、大面積のグラフェンシートを簡単に製造できる方法を提供する。【解決手段】 触媒金属層を形成した基板上に炭素含有ガスを供給してグラフェンシートを形成するグラフェンシートの製造方法であって、所定の性質を有する基板を準備する工程と、この基板の少なくとも一面に、少なくとも一つのライン状の触媒金属層を位置決めして形成する工程と、前記触媒金属層を形成した前記基板を容器内に収容するとともに、所定環境下で前記基板を加熱する工程と、前記基板の少なくとも前記触媒金属層を形成した面に、炭素含有ガスを供給する工程とを有し、前記触媒金属層の基板からの高さを、形成しようとするグラフェンシートの膜厚及び層数に応じた高さとした。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

触媒金属層を形成した基板上に炭素含有ガスを供給してグラフェンシートを形成するグラフェンシートの製造方法であって、 所定の性質を有する基板を準備する工程と、 この基板の少なくとも一面に、少なくとも一つのライン状の触媒金属層を位置決めして形成する工程と、 前記触媒金属層を形成した前記基板を容器内に収容するとともに、所定環境下で前記基板を加熱する工程と、 前記基板の少なくとも前記触媒金属層を形成した面に、炭素含有ガスを供給する工程とを有し、 前記触媒金属層の基板からの高さを、形成しようとするグラフェンシートの膜厚及び層数に応じた高さとしたこと、 を特徴とするグラフェンシートの製造方法。

IPC (1件)：

C01B 31/04

FI (1件)：

C01B31/04 101Z

Fターム (22件)：

4G146AA02 ,  4G146AB07 ,  4G146AD24 ,  4G146AD29 ,  4G146BA08 ,  4G146BA09 ,  4G146BA11 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BB22 ,  4G146BB23 ,  4G146BC09 ,  4G146BC16 ,  4G146BC23 ,  4G146BC25 ,  4G146BC33B ,  4G146BC34B ,  4G146BC42 ,  4G146BC43 ,  4G146BC44 ,  4G146BC48 ,  4G146DA03

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 高配向グラファイト及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-134346   出願人：株式会社カネカ
• 高配向グラファイト層状シ-ト物及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-075546   出願人：宇部興産株式会社