特許
J-GLOBAL ID：200903092324511471
感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びこれらを用いためっきレジストの製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-214418
公開番号（公開出願番号）：特開2000-047383
出願日： 1998年07月29日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 感度及び光硬化性に優れ、フォトリソグラフィーにより効率良く形成でき、解像度及び無電解銅めっき性に優れ、はんだ耐熱性、耐電食性等に優れた無電解銅めっき用フォトレジストとして好適な感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)(式中、R1は飽和脂肪族炭化水素基を、R2及びR3はアルキル基などを、x及びyは0〜4の整数を表す。)で示される繰り返し単位を有する樹脂の水酸基に多塩基酸無水物を、当量比が0.08〜0.8になるように反応させて得られるポリヒドロキシエーテル樹脂化合物20〜90重量部。末端にエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物80〜10重量部。光重合開始剤0.1〜20重量部及び下記一般式(III)で表されるブロックイソシアネート化合物(R4は有機基を、mは1〜6の整数を、R5はブロック剤の残基を表す。)を1〜30重量部を含有する感光性樹脂組成物。
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(I)【化1】(式中、R1は炭素数1〜12の2価の飽和脂肪族炭化水素基を表し、R2及びR3はそれぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基又はハロゲン原子を表し、x及びyはそれぞれ独立に0〜4の整数を表す。)で示される繰り返し単位を有するポリヒドロキシエーテル樹脂中の水酸基に対して、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物を、当量比(酸無水物基/水酸基)が0.08〜0.8の範囲になるように反応させて得られるカルボキシル基含有ポリヒドロキシエーテル樹脂化合物20〜90重量部、(B)末端にエチレン性不飽和基を少なくとも1個有する光重合性不飽和化合物80〜10重量部(但し、(A)成分と(B)成分の総量を100重量部とする。)、(C)活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤0.1〜20重量部(但し、(A)成分と(B)成分の総量を100重量部とする。)及び(D)下記一般式(II)で表されるイソシアネート化合物(式中、R4はm価の有機基を表し、mは1〜6の整数を表す。)とこれと反応し得る、ジケトン類、オキシム類、フェノール類、アルカノール類及びカプロラクタム類から選ばれる少なくとも1種のブロック剤とを反応して得られる下記一般式(III)で表されるブロックイソシアネート化合物(式中、R4はm価の有機基を表し、mは1〜6の整数を表し、R5は一般式(II)で表されるイソシアネート化合物とこれと反応し得るブロック剤が反応した際に得られるブロック剤の残基を表す。)を1〜30重量部(但し、(A)成分と(B)成分の総量を100重量部とする。)を含有する感光性樹脂組成物。【化2】
IPC (5件)：
G03F 7/032
, G03F 7/027
, G03F 7/028
, G03F 7/035
, H05K 3/18
G03F 7/032
, G03F 7/027
, G03F 7/028
, G03F 7/035
, H05K 3/18 D
2H025AA00
, 2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AA06
, 2H025AA07
, 2H025AA08
, 2H025AA10
, 2H025AA20
, 2H025AB15
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC12
, 2H025BC14
, 2H025BC32
, 2H025BC34
, 2H025BC42
, 2H025BC43
, 2H025CA00
, 2H025CA01
, 2H025CB21
, 2H025CB43
, 2H025CB45
, 2H025CC17
, 2H025DA05
, 2H025DA19
, 2H025DA20
, 2H025EA04
, 2H025EA10
, 2H025FA17
, 2H025FA29
, 2H025FA30
, 2H025FA43
, 2H025FA50
, 5E343AA07
, 5E343AA15
, 5E343AA17
, 5E343AA22
, 5E343BB24
, 5E343CC02
, 5E343CC62
, 5E343CC71
, 5E343DD33
, 5E343GG16
, 5E343GG20
