特許
J-GLOBAL ID:200903092335634729

ポジ型感光性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 若林 忠 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-148892
公開番号(公開出願番号):特開平11-218921
出願日: 1998年05月29日
公開日(公表日): 1999年08月10日
要約:
【要約】【課題】安全作業性、作業効率、製品の品質安定性に優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】最大波長が500〜620nmの範囲内にある安全光の照射環境下で使用する液状もしくは固体状のポジ型感光性樹脂組成物であり、その組成物から形成される未感光被膜の吸光度が上記安全光の最大波長の範囲から選ばれた最大波長の-30nm〜+30nmの範囲において0.5以下であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
請求項(抜粋):
最大波長が500〜620nmの範囲内にある安全光の照射環境下で使用する液状もしくは固体状のポジ型感光性樹脂組成物であり、その組成物から形成される未感光被膜の吸光度が上記安全光の最大波長の範囲から選ばれた最大波長の-30nm〜+30nmの範囲において0.5以下であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
IPC (3件):
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 503 ,  H05K 3/06
FI (3件):
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 503 ,  H05K 3/06 H
引用特許:
審査官引用 (4件)
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