特許
J-GLOBAL ID:200903092453376432

液晶表示素子の層間絶縁膜を形成するための感放射線性組成物、それから形成された層間絶縁膜、および液晶表示素子

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-274809
公開番号(公開出願番号):特開2004-107562
出願日: 2002年09月20日
公開日(公表日): 2004年04月08日
要約:
【課題】高い感放射線性と良好な現像性を有し、高い耐熱性および高い透明性を有するとともに、耐溶剤性に優れた液晶表示素子の層間絶縁膜の形成に適する感放射線性組成物を提供すること。また、上記感放射線性組成物から形成された液晶表示素子の層間絶縁膜、およびその層間絶縁膜を具備する液晶表示素子を提供すること。【解決手段】感放射線性組成物は、(A)下記一般式(1)で表されるシラン化合物、その加水分解物およびその加水分解物の縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1種、(R1)pSi(X)4-p ・・・(1)(一般式(1)中、R1は、炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。)、および(B)放射線の照射を受けて酸または塩基を発生する化合物を含有する。液晶表示素子の層間絶縁膜は上記感放射線性組成物から形成され、液晶表示素子は上記創刊絶縁膜を具備する。【選択図】 なし。
請求項(抜粋):
(A)下記一般式(1)で表されるシラン化合物、その加水分解物およびその加水分解物の縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1種、 (R1)pSi(X)4-p ・・・(1) (一般式(1)中、R1は、炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。)、および (B)放射線の照射を受けて酸または塩基を発生する化合物、 を含有することを特徴とする、液晶表示素子の層間絶縁膜を形成するための感放射線性組成物。
IPC (3件):
C08L83/00 ,  C08K5/00 ,  G02F1/1333
FI (3件):
C08L83/00 ,  C08K5/00 ,  G02F1/1333 505
Fターム (21件):
2H090HB09X ,  2H090HB12X ,  2H090HB13X ,  2H090HB15X ,  2H090HB17X ,  2H090HC05 ,  2H090HC08 ,  2H090HC13 ,  2H090HC15 ,  2H090LA04 ,  4J002CP011 ,  4J002CP021 ,  4J002CP031 ,  4J002EB006 ,  4J002EN136 ,  4J002EU186 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002FD146 ,  4J002GP00 ,  4J002GQ00
引用特許:
審査官引用 (3件)

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