特許
J-GLOBAL ID:200903092528606900

疎水性トップコート層を成形型から光学基材表面に転写する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-593126
公開番号(公開出願番号):特表2004-526605
出願日: 2002年05月27日
公開日(公表日): 2004年09月02日
要約:
以下の工程を含む、疎水性トップコート層を光学基材上に転写する方法:(a) 互いに協働して成形キャビティの輪郭を定める対向した光学表面を有する一対のプラスチック成形型を準備し;(b)前記成形型の光学表面の少なくとも一方に、疎水性トップコート層を形成し;(c)前記成形キャビティを、光学基材の液状硬化性組成物で満たし;(d)該液状硬化性組成物を硬化させ、(e)少なくともその片表面に成膜かつ密着したを有する光学基材を含む被覆層付き光学物品を回収するために一対の成形型を解体する。
請求項(抜粋):
以下の工程を含む、疎水性トップコート層を成形型から光学基材表面に転写する方法: (a)各が協働して成形キャビティの輪郭を定める互いに対向した光学表面を有する一対のプラスチック成形型を準備する工程; (b)前記成形型の前記光学表面の少なくとも一方に、疎水性トップコート層を形成する工程; (c)前記成形キャビティを、光学基材の液状硬化性組成物で満たす工程; (d)前記液状硬化性組成物を硬化させる工程、および (e)少なくとも一方の表面に成膜かつ密着したを有する光学基材を含む被覆層付き光学物品を回収するために一対の成形型を解体する工程。
IPC (3件):
B29C39/12 ,  G02B1/10 ,  G02C7/02
FI (3件):
B29C39/12 ,  G02C7/02 ,  G02B1/10 Z
Fターム (29件):
2K009AA02 ,  2K009AA15 ,  2K009BB11 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009CC26 ,  2K009CC35 ,  2K009CC42 ,  2K009DD01 ,  2K009DD02 ,  2K009DD03 ,  2K009EE00 ,  4F204AA28 ,  4F204AA33 ,  4F204AA36 ,  4F204AB07 ,  4F204AB19 ,  4F204AB21 ,  4F204AG03 ,  4F204AH73 ,  4F204AH74 ,  4F204AJ03 ,  4F204AJ04 ,  4F204EA03 ,  4F204EB01 ,  4F204EB22 ,  4F204EF01 ,  4F204EF02
引用特許:
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る