特許
J-GLOBAL ID：200903092563515764
撮像素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-041677
公開番号（公開出願番号）：特開2008-153691
出願日： 2008年02月22日
公開日（公表日）： 2008年07月03日
要約：
【課題】広角度で斜入射の光を効率よく受光する撮像素子を効率よく製造できる方法を提供する。【解決手段】複数の画素のそれぞれの受光部の上に屈折率の低い光学材料からなる第1層を形成する工程と、前記第1層の前記受光部の上の位置に第1穴を形成する工程と、 前記第1穴に屈折率の高い光学材料を埋め込む工程と、前記第1穴に埋め込まれた前記屈折率の高い光学材料及び前記第1層の上に、屈折率の低い光学材料からなる第2層を形成する工程と、前記第2層の前記受光部が対向する位置に第2穴を形成する工程と、前記第2穴に屈折率の高い光学材料を埋め込む工程とを備える撮像素子の製造方法である。【選択図】図29
請求項（抜粋）：
複数の画素のそれぞれの受光部の上に屈折率の低い光学材料からなる第1層を形成する工程と、
前記第1層の前記受光部の上の位置に第1穴を形成する工程と、
前記第1穴に屈折率の高い光学材料を埋め込む工程と、
前記第1穴に埋め込まれた前記屈折率の高い光学材料及び前記第1層の上に、屈折率の低い光学材料からなる第2層を形成する工程と、
前記第2層の前記受光部が対向する位置に第2穴を形成する工程と、
前記第2穴に屈折率の高い光学材料を埋め込む工程と
を備えることを特徴とする撮像素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L27/14 D
, H04N5/335 U
4M118AB01
, 4M118BA06
, 4M118CA32
, 4M118GA09
, 4M118GB03
, 4M118GB07
, 4M118GC07
, 4M118GD03
, 4M118GD04
, 4M118GD07
, 4M118GD20
, 4M118HA02
, 4M118HA22
, 4M118HA23
, 4M118HA24
, 4M118HA35
, 5C024CY47
, 5C024EX23
, 5C024EX43
, 5C024EX51
出願人引用 (1件)
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ズームレンズ
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-056855
出願人：日本電産コパル株式会社
審査官引用 (2件)
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