特許

J-GLOBAL ID：200903092612228075

薄膜磁気ヘッド、その製造方法および磁気ディスク装置

発明者： 及川 玄 ,  小島 修一 ,  斉藤 治信 ,  斉木 教行 ,  香川 昌慶 ,  近藤 祥 ,  石掛 賢治 ,  椎名 宏実
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-101206
公開番号（公開出願番号）：特開2001-291211
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：

【要約】【課題】膜厚方向の組成及び磁気特性を厳密に制御した上部シ-ルドを形成し、ライト後ノイズ及び出力変動を抑えた薄膜磁気ヘッドを提供すること。【解決手段】薄膜磁気ヘッドの上部シ-ルドを電気めっき法で形成する薄膜磁気ヘッドの製法において、めっき電流密度を時間と共にステップ型に変化させる。

請求項（抜粋）：

記録ヘッドと再生ヘッドを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、再生ヘッドエレメントであるセンサ-膜の周りに設けられ、軟磁気特性と磁気的なシ-ルド機能とを持つ強磁性体膜がNiFe合金であるパ-マロイから成り、初期形成層から膜厚1.0μmにおける組成範囲がNi=80.8〜82.0wt%であり、膜厚1.0μmから上部形成層における膜組成範囲が、Ni=81.0〜81.2wt%であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

IPC (3件)：

G11B 5/31 ,  G11B 5/39 ,  H01F 10/14

FI (4件)：

G11B 5/31 C ,  G11B 5/31 K ,  G11B 5/39 ,  H01F 10/14

Fターム (12件)：

5D033BA03 ,  5D033BA07 ,  5D033BB43 ,  5D033DA04 ,  5D034BA18 ,  5D034BB08 ,  5D034BB12 ,  5D034CA04 ,  5D034DA07 ,  5E049AA07 ,  5E049AA09 ,  5E049BA12

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 複合型薄膜磁気ヘッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-058724   出願人：茨城日本電気株式会社
• 特開昭55-101124
  
• Ni-Fe合金電気めっき方法およびこの方法を用いた Ni-Fe合金めっき膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-260124   出願人：茨城日本電気株式会社
• 複合型薄膜磁気ヘッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-355271   出願人：リードライト・エスエムアイ株式会社
• 特開昭55-101124
  
• 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-023361   出願人：アルプス電気株式会社