特許
J-GLOBAL ID：200903092676068462

荷電粒子ビーム出射装置及び荷電粒子ビーム出射方法

発明者：
梅澤 真澄

梅澤 真澄 について

, 
平本 和夫

平本 和夫 について

, 
松田 浩二

松田 浩二 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-127150
公開番号（公開出願番号）：特開2009-273632
出願日： 2008年05月14日
公開日（公表日）： 2009年11月26日
要約：
【課題】照射時間を短縮し、単位時間当りの治療患者数を増加する。【解決手段】イオンビームの入射、加速、出射及び減速の4つの工程からなるパターン運転を周期的に行うシンクロトロン4と、高周波印加電極7とこの高周波印加電極7に高周波電力を印加する高周波電源8との接続を開閉する開閉スイッチ9と、シンクロトロン4の出射工程中にイオンビームの出射停止が少なくとも1回行われる場合に、1周期内にシンクロトロン4から出射されるイオンビームの量がほぼ一定となるように開閉スイッチ9の開閉タイミングを制御するタイミング制御装置62とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームを照射装置から出射させる荷電粒子ビーム出射装置において、 前記荷電粒子ビームの入射、加速及び出射工程を含むパターン運転を周期的に行う加速器と、 前記加速器から出射される前記荷電粒子ビームの量を変更するビーム出射量調整装置と、 前記加速器の出射工程中に前記荷電粒子ビームの出射停止が少なくとも1回行われる場合に、1周期内に前記加速器から出射される前記荷電粒子ビームの量がほぼ設定量となるように前記ビーム出射量調整装置を制御する制御装置とを備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム出射装置。
IPC (1件)：
A61N 5/10
FI (1件)：
A61N5/10 H
Fターム (9件)：
4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE03 ,  4C082AG07 ,  4C082AG12 ,  4C082AG33 ,  4C082AG52 ,  4C082AN01 ,  4C082AP02
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 米国特許第5363008号明細書
  • 特許第2833602号公報
審査官引用 (3件)

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