ウエハー供給回収装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：株式会社ダン・タクマ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-334329
公開番号（公開出願番号）：特開2005-072544
出願日： 2003年08月20日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：

【課題】半導体製造において、プロセス処理前のウエハーとプロセス処理により汚染されたプロセス処理後のウエハーが同一FOUP内に混在する場合であっても。ウエハー間のクロスコンタミを防止し、プロセス処理前のウエハーの汚染を防止することにある。【解決手段】ウエハー収納容器FOUP2と、FOUPからウエハー1を取り出し、FOUPに回収するドアオプナー16と、FOUPの開口前面に設けた上下駆動するクリーンユニット4から構成され、ウエハーを枚葉式にプロセス処理するため、FOUPの下側からウエハーを順次取り出し、プロセス処理後、ウエハーをFOUP内の元の位置に下側から順次、回収し、主としてプロセス処理前のウエハーのみに前記クリーンユニットからのクリーンエアーを吹き付けるようにクリーンユニットもFOUP内の処理前ウエハーに合わせて順次,上方に移動させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ウエハー収納容器FOUPと、該FOUPからウエハーを取り出し、また前記FOUPに回収するドアオプナーと、前記FOUPの開口前面に設けた上下駆動するクリーンユニットから構成され、かつウエハーを枚葉式にプロセス処理するため、前記FOUPの下側からウエハーを順次取り出し、プロセス処理後、該ウエハーをFOUP内の元の位置に下側から順次、回収し、主としてプロセス処理前のウエハーのみに前記クリーンユニットからのクリーンエアーを吹き付けるように前記クリーンユニットも前記FOUP内の処理前ウエハーに合わせて順次,上方に移動させるウエハー供給回収装置。

IPC (2件)：

H01L21/68 , H01L21/02

FI (3件)：

H01L21/68 A , H01L21/68 T , H01L21/02 D

Fターム (13件)：

5F031CA02 , 5F031DA08 , 5F031FA01 , 5F031FA11 , 5F031JA45 , 5F031JA51 , 5F031NA02 , 5F031NA03 , 5F031NA10 , 5F031NA14 , 5F031NA16 , 5F031NA20 , 5F031PA18

引用特許：

出願人引用 (1件)

半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-196802 出願人：日本エー・エス・エム株式会社

審査官引用 (4件)

基板収納容器、基板搬送システム、保管装置及びガス置換方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-233960 出願人：株式会社半導体先端テクノロジーズ
特開平3-014253
特開平3-014253

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