特許
J-GLOBAL ID：200903099171684864

パージ装置およびパージ方法

発明者：
宮嶋 俊彦

宮嶋 俊彦 について

, 
五十嵐 宏

五十嵐 宏 について


出願人/特許権者：
TDK株式会社

TDK株式会社 について


代理人 (12件)： 岡部 正夫 ,  加藤 伸晃 ,  産形 和央 ,  臼井 伸一 ,  藤野 育男 ,  越智 隆夫 ,  本宮 照久 ,  高梨 憲通 ,  朝日 伸光 ,  高橋 誠一郎 ,  吉澤 弘司 ,  松井 孝夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-123792
公開番号（公開出願番号）：特開2004-327911
出願日： 2003年04月28日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：
【課題】FOUPに収容されたウエハからの汚染物質等の除去操作を容易且つ確実に行うことを可能とする。【解決手段】FOUPにおける蓋を本体から分離した状態において、開口の前面をウエハが重ねられたに方向に沿ってガス供給ノズルを移動させ、ウエハ一枚一枚に対してガス供給ノズルより清浄ガスを吹き付けることによって、ウエハからの汚染物質等の除去を行うこととする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
開口、および被収容物が各々載置される所定の方向に並ぶ複数の棚からなる本体と、前記本体から分離可能であって前記開口を塞ぐ蓋と、を備えるポッドに収容された前記被収容物に対し、所定のガスを吹き付けてパージ操作を行うパージ装置であって、 前記蓋が前記本体から分離された状態において、前記開口の前面を前記所定の方向に移動可能なフレームと、 前記フレームに対して所定の位置関係を保つことで前記所定方向に移動可能なガス供給ノズルとを有することを特徴とするパージ装置。
IPC (1件)：
H01L21/68
FI (3件)：
H01L21/68 A ,  H01L21/68 L ,  H01L21/68 T
Fターム (21件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA08 ,  5F031EA12 ,  5F031EA14 ,  5F031EA19 ,  5F031EA20 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA03 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031JA05 ,  5F031JA23 ,  5F031KA02 ,  5F031KA20 ,  5F031NA10 ,  5F031NA15 ,  5F031NA17 ,  5F031NA20
引用特許：
審査官引用 (4件)
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