特許
J-GLOBAL ID:200903092810329561

磁気ディスク基板用研磨布の溝形成加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 孝夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-103219
公開番号(公開出願番号):特開平9-267255
出願日: 1996年03月29日
公開日(公表日): 1997年10月14日
要約:
【要約】【課題】 リッケルリンめっきアルミ基板あるいはガラス基板等からなる磁気ディスク基板の研磨に使用される研磨布に従来のようなバリや熱による硬化部等の欠陥が形成されない研磨布の溝形成加工方法を提供する。【解決手段】 磁気ディスク基板用研磨布表層部の溝形成加工方法において、該研磨布表層部に所定のスポット径に集光させたレーザー光を照射し、これにより生成したガスあるいは有機物を不活性ガスを吹き付けることにより該研磨布表層部から除去する。これによりバリや硬化部等の欠陥を有しない溝が形成でき、得られた研磨布を用いてニッケルリンめっきアルミ基板等を研磨することによりスクラッチが発生せず、従って基板面の仕上がりが良好となり、後の媒体加工工程で磁性体皮膜を形成してメディア基板とした場合に微小な欠陥もない磁気ディスク基板が得られる。
請求項(抜粋):
磁気ディスク基板用研磨布の表層部に溝を形成加工する方法において、該研磨布表層部に所定のスポット径に集光させたレーザー光を照射し、これにより生成したガスあるいは有機物を不活性ガスを吹き付けることにより該研磨布表層部から除去することを特徴とする磁気ディスク基板用研磨布の溝形成加工方法。
IPC (2件):
B24B 37/00 ,  B24D 7/00
FI (2件):
B24B 37/00 C ,  B24D 7/00 P
引用特許:
審査官引用 (4件)
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