特許
J-GLOBAL ID：200903092894338250
光描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-331902
公開番号（公開出願番号）：特開平6-181153
出願日： 1992年12月11日
公開日（公表日）： 1994年06月28日
要約：
【要約】【目的】 パワーロスなしに、輪帯照明を行い、高い解像力を備えた光描画装置を得る。さらに、パワーロスのない輪帯照明と同時に、S偏光を利用した偏光照明を行い、より高い解像度を達成する光描画装置を得る。【構成】 レーザー発振器11から出射された光は、第一の円錐形のミラー16により発散され、リレーミラー18により再び収束された後、輪帯状の光束を形成するように調節して設けられた第二の円錐形のミラー17により、輪帯状の光束を形成して、集光レンズ14により基板15上に集光されて、基板15に回路パタンを描画する。また、ミラー16または17の代わりに偏光ビームスプリッタを設置して、輪帯照明と同時に偏光照明を行い、パタン描画を行う。【効果】 パワーロスなしに、輪帯照明及び偏光照明を行い、高い解像度を得る。
請求項（抜粋）：
被加工物上に描画するための光束を発生する光源と、上記光源から出射された光束を反射させて上記光束の光軸を中心として径方向外向成分を持って発散する発散光束を形成する発散ミラーと、上記発散光束を反射させて上記光束の光軸を中心として径方向内向成分を持って収束する収束光束を形成する収束ミラーと、上記収束光束を反射させて上記光軸に沿った平行な輪帯状平行光束を形成する平行化ミラーと、上記輪帯状平行光束を収束させて被加工物上に焦点を結ばせる集光レンズとを備えた光描画装置。
IPC (6件)：
H01L 21/027
, G02B 7/28
, G03F 1/08
, G03F 7/20 505
, G11B 7/135
, H01S 3/101
H01L 21/30 321
, G02B 7/11 M
