特許

J-GLOBAL ID：200903092912813042

基板処理システム、インターフェイス装置、および基板搬送方法

発明者： 飯田 成昭 ,  志柿 幸男
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-369876
公開番号（公開出願番号）：特開平11-163095
出願日： 1997年11月28日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：

【要約】【課題】 インターフェイス装置内の固定ステージにウエハボートが回転方向の位置ずれをして搬入されたとしても、位置ずれを自動的に補正して、ウエハボートの位置を正確に位置合せできるようにすること。【解決手段】 ウエハボート24が回転方向の位置ずれをして載置される時、ガイドピン56をウエハボート24の切欠きに係合してならわせることにより、スプリング57aの付勢力に抗しながら回転テーブル52を位置ずれ方向に回動させてウエハボート24を載置し、この載置完了後、スプリング57aの付勢力により回転テーブル52を逆方向に回動させて所定の載置位置に復帰させ、これにより、ウエハボート24を所定の載置位置に位置合せする。

請求項（抜粋）：

被処理基板に所定の枚葉処理を施す第1の処理装置と、複数の被処理基板を基板保持体に保持した状態で被処理体に他の処理を施す第2の処理装置と、第1の処理装置で処理された基板が一枚ずつ搬入され、その基板を基板保持体に保持させるとともに、複数の基板が保持された基板保持体を第2の処理装置へ搬送し、前記他の処理が終了後、前記基板保持体が戻されるインターフェイス装置とを具備する基板処理システムであって、前記インターフェイス装置は、インターフェイス装置内の固定ステージに回転自在に設けられ、被処理基板保持体を載置する回転テーブルと、被処理基板保持体が所定の載置位置から回転方向の位置ずれをして載置される時、回転テーブルを位置ずれ方向に回動させて被処理基板保持体を載置し、この載置完了後、回転テーブルを逆方向に回動させて被処理基板保持体を所定の載置位置に位置合せする位置合せ手段とを備えることを特徴とする基板処理システム。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B25J 11/00 ,  B65G 49/07

FI (3件)：

H01L 21/68 A ,  B25J 11/00 ,  B65G 49/07 C

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 縦型ウエハボート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-059983   出願人：旭硝子株式会社
• 縦型熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-122596   出願人：東京エレクトロン株式会社