特許
J-GLOBAL ID：200903093143373499

ラミネート方法

発明者：
山本 尚俊

山本 尚俊 について

, 
日向 淳悦

日向 淳悦 について


出願人/特許権者：
ニチゴー・モートン株式会社

ニチゴー・モートン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-218494
公開番号（公開出願番号）：特開2000-029211
出願日： 1998年07月15日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：
【要約】【課題】 基板表面の凹凸に対する追従性に優れ、真空ラミネート後の感度変化がなく、露光までのホールドタイムを必要しない、生産性に優れたラミネート方法を提供すること。【解決手段】 カルボキシル基含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)、チウラムスルフィド類(C)、ロフィン二量体(D)、ロイコ化合物(E)及びp-アミノフェニルケトン類(F)を含有する感光性樹脂組成物からなるフォトレジストフィルムを、真空条件下で基板にラミネートするラミネート方法。
請求項（抜粋）：
カルボキシル基含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)、下記(I)式で示されるチウラムスルフィド類(C)、ロフィン二量体(D)、ロイコ化合物(E)及びp-アミノフェニルケトン類(F)を含有する感光性樹脂組成物からなるフォトレジストフィルムを、真空条件下で基板にラミネートすることを特徴とするラミネート方法。【化1】ここで、R1、R2、R3、R4は同じでも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基のいずれかを表し、又、R1、R2及びR3、R4はそれと結合している窒素原子と共に非金属原子からなる環を構成していてもよい。nは1〜10の整数を表す。
IPC (4件)：
G03F 7/031 ,  B29C 63/02 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/16
FI (4件)：
G03F 7/031 ,  B29C 63/02 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/16
Fターム (31件)：
2H025AA01 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC51 ,  2H025CA01 ,  2H025CA03 ,  2H025CA28 ,  2H025CA31 ,  2H025CB43 ,  2H025CC14 ,  2H025EA08 ,  4F211AA21 ,  4F211AA34 ,  4F211AD03 ,  4F211AD05 ,  4F211AD08 ,  4F211AG02 ,  4F211AG03 ,  4F211AH36 ,  4F211AM28 ,  4F211SA07 ,  4F211SC06 ,  4F211SD01 ,  4F211SH06 ,  4F211SH22 ,  4F211SN12 ,  4F211SP04 ,  4F211SP21
引用特許：
審査官引用 (7件)
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