特許

J-GLOBAL ID：200903093208002256

中性化システム

発明者： 妹尾 和洋
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 川瀬 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-181207
公開番号（公開出願番号）：特開平10-012181
出願日： 1996年06月20日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：

【要約】【目的】 イオン注入装置において試料に正イオンビームを大量に注入するとチャージアップが起こる。チャージアップを防ぐために熱電子を試料に照射する中性化装置を設けるが、イオンビームを走査するので試料の全面に電子が一様に照射されない。中性化のための電子の供給量を試料の全面において一様にすることが目的である。【構成】 イオン注入装置のビーム輸送系の壁に二つのシャワー装置A、Bを対称の位置に設け、エミッション電流が同一になるように制御する。

請求項（抜粋）：

原料ガスを励起しイオンビームにするイオン源と、イオン源から出たイオンビームを輸送するビーム輸送系と、イオンビームを走査する走査装置と、試料を保持する試料台を含むイオン注入装置において、ビーム輸送系において試料に関して対称の位置にフィラメントによって熱電子を発生する電子シャワー装置を二つ設け、二つの電子シャワー装置A、Bのエミッション電流A1、A2を測定しこれが同一になるようにフィラメント電圧を制御するようにしたことを特徴とする中性化システム。

IPC (3件)：

H01J 37/317 ,  C23C 14/48 ,  H01L 21/265

FI (3件)：

H01J 37/317 Z ,  C23C 14/48 C ,  H01L 21/265 N

引用特許：

審査官引用 (2件)

• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-018800   出願人：日新電機株式会社
• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-011498   出願人：山形日本電気株式会社