特許
J-GLOBAL ID:200903093308962184

ドライエッチング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-342801
公開番号(公開出願番号):特開平11-176813
出願日: 1997年12月12日
公開日(公表日): 1999年07月02日
要約:
【要約】【課題】ドライエッチング装置において、チャンバに設けられたウエハ導入部やゲートバルブへの反応生成物の付着を防ぐ。【解決手段】ウエハステージ4にシャッタ13を取り付け、このシャッタ13はウエハステージ4の上下動作と同期して一体に動作し、ウエハエッチング中は上昇してウエハ導入部11を遮断し、プラズマ放電領域12からの反応ガスの流入を防ぐことによってウエハ導入部11でのガスの淀みをなくし、またウエハ搬送中はウエハステージ4と共に搬送位置より降下してウエハ導入部11を開き、ウエハ6の搬送を妨げることなく、かつウエハ導入部11やゲートバルブ10への反応生成物の付着を抑えることを可能とする。
請求項(抜粋):
チャンバに設けられたウエハ導入部からウエハを搬入し、搬入したウエハをウエハステージ上に載置してプラズマ放電によりエッチングを行うドライエッチング装置において、前記ウエハ導入部をチャンバ内側で遮断するシャッタを設けたことを特徴とするドライエッチング装置。
IPC (2件):
H01L 21/3065 ,  H01L 21/68
FI (2件):
H01L 21/302 B ,  H01L 21/68 A
引用特許:
審査官引用 (4件)
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