特許
J-GLOBAL ID：200903093310679350

核酸検出用プローブ基板

発明者：
井上 友喜

井上 友喜 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-336317
公開番号（公開出願番号）：特開2005-034129
出願日： 2003年09月26日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：
【課題】 核酸等よりなるプローブが固定化された核酸検出用プローブ基板を小型化し、核酸の量の検出精度を上げて測定誤差を抑えることができる核酸検出用プローブ基板を提供すること。 【解決手段】 核酸検出用プローブ基板は、セラミックスから成る基板1と、基板1の第1の主面に形成された第1の配線層2と、第1の配線層2を覆って第1の主面に被着された第1の絶縁層3と、第1の絶縁層3の上面に形成され、第1の絶縁層3に形成された貫通孔を通して第1の配線層2と電気的に接続された第2の配線層4と、第2の配線層4を覆うとともに第2の配線層4の一部が露出するように開口部5aが設けられた第2の絶縁層5と、開口部5aより露出した第2の配線層5に固定された核酸よりなる核酸検出用のプローブ6と、基板1の第2の主面に形成された端子電極2aと、端子電極2aと第1の配線層2とを電気的に接続する接続導体1aとを具備している。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
セラミックスから成る基板と、該基板の第1の主面に形成された第1の配線層と、前記第1の配線層を覆って前記第1の主面に被着された第1の絶縁層と、該第1の絶縁層の上面に形成され、前記第1の絶縁層に形成された貫通孔を通して前記第1の配線層と電気的に接続された第2の配線層と、該第2の配線層を覆うとともに前記第2の配線層の一部が露出するように開口部が設けられた第2の絶縁層と、前記開口部より露出した前記第2の配線層に固定された核酸よりなる核酸検出用のプローブと、前記基板の第2の主面に形成された端子電極と、該端子電極と前記第1の配線層とを電気的に接続する接続導体とを具備していることを特徴とする核酸検出用プローブ基板。
IPC (7件)：
C12N15/00 ,  C12M1/00 ,  G01N27/327 ,  G01N27/416 ,  G01N33/483 ,  G01N33/53 ,  G01N37/00
FI (7件)：
C12N15/00 Z ,  C12M1/00 A ,  G01N33/483 F ,  G01N33/53 M ,  G01N37/00 102 ,  G01N27/46 336M ,  G01N27/30 351
Fターム (13件)：
2G045AA35 ,  2G045DA13 ,  2G045FB02 ,  2G045FB05 ,  2G045GC20 ,  2G045JA07 ,  4B029AA07 ,  4B029AA21 ,  4B029BB20 ,  4B029CC03 ,  4B029FA09 ,  4B029FA12 ,  4B029HA02
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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