特許
J-GLOBAL ID：200903093316761635

含フッ素共重合体、皮膜形成用組成物、反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置

発明者：
大林 達彦

大林 達彦 について

, 
細川 隆史

細川 隆史 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 飯田 敏三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-097830
公開番号（公開出願番号）：特開2003-026732
出願日： 2002年03月29日
公開日（公表日）： 2003年01月29日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 硬化皮膜の耐擦傷性に優れる含フッ素共重合体、これを含有する皮膜形成用組成物、反射防止膜、反射防止フィルム及び表示装置を提供する。【解決手段】 下記一般式1で表わされる含フッ素共重合体を用いることにより、反射防止性能と耐擦傷性に優れた反射防止膜を得ることができる。一般式1中、Rf1は炭素数1〜30の直鎖、分岐または脂環構造を有する含フッ素アルキル基を表わし、エーテル結合を有していても良く、Rf2は炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基を表わし、Aは架橋反応に関与し得る反応性基を少なくとも1つ以上含有する構成成分を表わし、Bは任意の構成成分を表わし、a〜dはそれぞれ各構成成分のモル分率(%)を表わし、それぞれ55≦a+b≦95、5≦a≦90、5≦b≦70、5≦c≦45、0≦d≦40の関係を満たす値を表わす。
請求項（抜粋）：
下記一般式1で表わされる含フッ素共重合体。【化1】一般式1中、Rf1は炭素数1〜30の直鎖、分岐または脂環構造を有する含フッ素アルキル基を表わし、エーテル結合を有していても良く、Rf2は炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基を表わし、Aは架橋反応に関与し得る反応性基を少なくとも1つ以上含有する構成成分を表わし、Bは任意の構成成分を表わし、a〜dはそれぞれ各構成成分のモル分率(%)を表わし、それぞれ55≦a+b≦95、5≦a≦90、5≦b≦70、5≦c≦45、0≦d≦40の関係を満たす値を表わす。
IPC (4件)：
C08F216/14 ,  C08F214/18 ,  G02B 1/10 ,  G02B 1/11
FI (4件)：
C08F216/14 ,  C08F214/18 ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z
Fターム (27件)：
2K009AA05 ,  2K009AA06 ,  2K009AA15 ,  2K009BB28 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009CC26 ,  2K009CC35 ,  2K009CC42 ,  2K009EE03 ,  4J100AC21Q ,  4J100AC22Q ,  4J100AE03S ,  4J100AE09P ,  4J100AE09R ,  4J100BA02P ,  4J100BA77R ,  4J100BB13P ,  4J100BB17P ,  4J100BB18P ,  4J100BC04P ,  4J100BC53P ,  4J100BC54R ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA00
引用特許：
審査官引用 (6件)
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