特許

J-GLOBAL ID：200903093318026606

チャンバ装置の大気置換方法、チャンバ装置、これを備えた電気光学装置および有機EL装置

発明者： 林 高之
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 落合 稔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-034031
公開番号（公開出願番号）：特開2003-243159
出願日： 2002年02月12日
公開日（公表日）： 2003年08月29日
要約：

【要約】【課題】 チャンバルーム内の不活性ガスの雰囲気と大気とを短時間で効率良く置換することができるチャンバ装置の大気置換方法、チャンバ装置、これを備えた電気光学装置および有機EL装置を提供することを課題とする。【解決手段】 チャンバルーム11内に構成した不活性ガスの雰囲気と外気とを置換するチャンバ装置3の大気置換方法であって、チャンバルーム11の排気流路102を開放すると共に不活性ガスのガス供給流路138を閉塞し、チャンバルーム11内に外気を強制送気して、チャンバルーム11内の不活性ガスと外気とを置換するものである。

請求項（抜粋）：

チャンバルーム内に構成した不活性ガスの雰囲気と外気とを置換するチャンバ装置の大気置換方法であって、前記チャンバルームの排気流路を開放すると共に不活性ガスのガス供給流路を閉塞し、前記チャンバルーム内に外気を強制送気して、前記チャンバルーム内の不活性ガスと外気とを置換することを特徴とするチャンバ装置の大気置換方法。

IPC (4件)：

H05B 33/10 ,  B01J 4/00 102 ,  H01L 21/02 ,  H05B 33/14

FI (4件)：

H05B 33/10 ,  B01J 4/00 102 ,  H01L 21/02 D ,  H05B 33/14 A

Fターム (13件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  3K007FA03 ,  4G068AA01 ,  4G068AA07 ,  4G068AB01 ,  4G068AC05 ,  4G068AD49 ,  4G068AD50 ,  4G068AF12 ,  4G068AF17 ,  4G068AF31

引用特許：

審査官引用 (3件)

• イオン処理装置の処理室のベント方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-257842   出願人：日新電機株式会社
• ガス濃度制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-246666   出願人：トキコ株式会社
• 有機EL表示装置の製造装置及び製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-322809   出願人：ティーディーケイ株式会社