特許
J-GLOBAL ID：200903088763748200

イオン処理装置の処理室のベント方法

発明者：
野上 貴史

野上 貴史 について


出願人/特許権者：
日新電機株式会社

日新電機株式会社 について


代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-257842
公開番号（公開出願番号）：特開平11-086768
出願日： 1997年09月05日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：
【要約】【課題】 処理室内で酸欠が起こる可能性を排除しつつ、プラズマシャワー装置構成部品の酸化を防止し、かつベント作業の能率の高いベント方法を提供する。【解決手段】 この発明のベント方法は、第1ベント工程と、それに続く排気工程と、それに続く第2ベント工程とを備えている。第1ベント工程では、真空に排気された処理室2内に不活性ガス38を導入して処理室2内をほぼ大気圧まで戻す。排気工程では、粗引きポンプ22によって処理室2内を負圧に排気して処理室2内の不活性ガス38を排出する。第2ベント工程では、処理室2内に空気30を導入して処理室2内を大気圧に戻す。
請求項（抜粋）：
真空に排気された処理室内で基板にイオンビームを照射して当該基板に処理を施す装置であって、基板付近にプラズマを供給してイオンビーム照射に伴う基板の帯電を抑制するプラズマシャワー装置を処理室内に有するイオン処理装置の処理室内を大気圧に戻すベント方法において、真空に排気された処理室内に不活性ガスを導入して処理室内をほぼ大気圧まで戻す第1ベント工程と、その後処理室内を負圧に排気して処理室内の不活性ガスを排出する排気工程と、その後処理室内に空気を導入して処理室内を大気圧に戻す第2ベント工程とを備えることを特徴とするイオン処理装置の処理室のベント方法。
IPC (5件)：
H01J 37/18 ,  H01J 37/16 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/3065
FI (5件)：
H01J 37/18 ,  H01J 37/16 ,  H01J 37/317 B ,  H01L 21/265 603 C ,  H01L 21/302 D
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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