特許
J-GLOBAL ID：200903063580504334
有機EL表示装置の製造装置及び製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-322809
公開番号（公開出願番号）：特開2000-133446
出願日： 1998年10月28日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：
【要約】【課題】 高品質かつ安定な品質を有し、低コストな、有機EL表示装置の製造装置および製造方法を実現する。【解決手段】 成膜前の基板を搬送する第1の基板搬送手段61を有するロード側常圧搬送室11と、これに連結して、基板を常圧であるロード側常圧搬送室11から真空である真空搬送室31へ導入するロード室21と、ロード室21に連結して真空中で基板を搬送する第2の基板搬送手段62を有し、かつ1つ、または2つ以上の成膜室32〜35が連結されている真空搬送室31と、これに連結して、基板を真空の真空搬送室31から常圧のアンロード側常圧搬送室51へ搬出するアンロード室41と、アンロード室41に連結して成膜済みの基板を搬送する第3の基板搬送手段63を有するアンロード側常圧搬送室51とを有し、常圧時の前記アンロード室41と前記アンロード側常圧搬送室51とが、水分含有量100ppm 以下の不活性ガス雰囲気である有機EL表示装置の製造装置、およびこの装置を用いた製造方法とした。
請求項（抜粋）：
成膜前の基板を搬送する第1の基板搬送手段を有するロード側常圧搬送室と、これに連結して、基板を常圧であるロード側常圧搬送室から真空である真空搬送室へ導入するロード室と、このロード室に連結して真空中で基板を搬送する第2の基板搬送手段を有し、かつ1つ、または2つ以上の成膜室が連結されている真空搬送室と、これに連結して、基板を真空の真空搬送室から常圧のアンロード側常圧搬送室へ搬出するアンロード室と、このアンロード室に連結して成膜済みの基板を搬送する第3の基板搬送手段を有するアンロード側常圧搬送室とを有し、常圧時の前記アンロード室と前記アンロード側常圧搬送室とが、水分含有量100ppm 以下の不活性ガス雰囲気である有機EL表示装置の製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05B 33/10
, H05B 33/14 A
3K007AB18
, 3K007CA01
, 3K007CB01
, 3K007DA00
, 3K007FA00
, 3K007FA03
