特許
J-GLOBAL ID:200903093339871055
F2エキシマレーザー光学部材用石英ガラス材料及び光学部材
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
高橋 昌久 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-371654
公開番号(公開出願番号):特開2000-239040
出願日: 1999年12月27日
公開日(公表日): 2000年09月05日
要約:
【要約】【課題】 F2エキシマレーザーの発振波長での光透過率が高く、F2エキシマレーザー照射に対する耐レーザー性が高い光学部材用石英ガラス材料及び光学部材の提供。【解決手段】 光学部材用石英ガラス材料及び光学部材であって、OH基濃度が5ppm以下、フッ素を0.1〜2mol%含有し、水素濃度を5×1016分子/cm3以下とし、好ましくは更に屈折率の最大値と最小値の差Δnが2×10-5以下としたことを特徴とする。
請求項(抜粋):
OH基濃度が5ppm以下、フッ素濃度が0.1〜2mol%、水素濃度が5×1016分子/cm3以下であることを特徴とするF2 エキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス材料及び光学部材。
IPC (3件):
C03C 3/06
, C03B 20/00
, G02B 1/00
FI (3件):
C03C 3/06
, C03B 20/00 F
, G02B 1/00
引用特許:
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