透明石英ガラスとその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：泉名謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-042252
公開番号（公開出願番号）：特開平6-227827
出願日： 1993年02月05日
公開日（公表日）： 1994年08月16日
要約：

【要約】【目的】超LSI製造のエキシマレーザーフォトリソ工程に用いられるフォトマスク基板に適応可能な透明石英ガラスとその製造方法の提供。【構成】OH含有量10ppm以下、ハロゲン含有量400ppm以上、かつ水素分子を含有させたエキシマレーザー耐性を有する透明石英ガラス。多孔質石英ガラス体をハロゲン雰囲気中で脱水処理後、透明ガラス化し、得られた透明石英ガラスに水素を含有させて目的の透明石英ガラスを得る。

請求項（抜粋）：

ガラス形成原料を火炎加水分解させて得られる石英ガラス微粒子を基材に堆積・成長させて形成された多孔質石英ガラス体を加熱して得られる透明石英ガラスにおいて、該透明石英ガラス中のOH含有量が10ppm以下であって、ハロゲンを400ppm以上含有し、かつ水素を含有することを特徴とする透明石英ガラス。

IPC (6件)：

C03B 8/04 , C03B 19/01 , C03B 20/00 , C03C 3/06 , G02B 1/04 , G03F 1/14

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開平3-034419

審査官引用 (15件)

特開平3-034419
特開平3-034419
特開平2-064028

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