特許
J-GLOBAL ID：200903093490564733

相対位置検出装置

発明者：
前田 英男

前田 英男 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-081976
公開番号（公開出願番号）：特開平10-260007
出願日： 1997年03月14日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：
【要約】【課題】 スケールの移動方向と垂直な方向への移動に強く、スケールの傾きに強い位相検出装置を提供する。【解決手段】 光源1の光を集光手段2によって集光し、ビーム分離手段21,22によって二つの光に分離し、ビームスプリット手段22を経験させ、スリット10上において二つの偏光をスリットピッチの周期に対し略1/4周期ずれるように投影する。ビーム形状の移動方向の大きさはスリットピッチの略半分とし、反射又は透過してきた光を前記ビームスプリット手段22で分離し、分離されたそれぞれの光を受光手段23A,23Bで受光して1/4周期ずれた二つの信号を検知する。?@スケールの距離の変動に対して、レンズの焦点深度に置き換えることで、強くし、?Aスケールの傾きによる反射の変動に対して、レンズの焦点付近での傾きは戻り光の傾きに影響を与えないので、安定して、進行方向とスリットピッチの本数を検知することができる。
請求項（抜粋）：
光源からの光を、光の反射率又は透過率が周期的に変化する構造を有するスリットに投射し、前記光源と前記スリットの相対的な位置の変化に伴い、前記反射光又は透過光の光強度が変化することを受光手段で検出して、前記光源と前記スリットの相対的位置の変化を読みとる相対位置検出装置において、前記光源からの光を集光手段によって集光し、偏光分離手段によって二つの偏光に分離し、次いで、前記スリット上において前記二つの光をスリットピッチの周期に対し略1/4周期ずれるように投影しつつ、ビーム形状の移動方向の大きさを前記スリットピッチの略半分とし、反射又は透過してきた光を前記ビームスプリット手段で分離し、分離されたそれぞれの光を受光手段で受光して1/4周期ずれた二つの信号を検知し、前記スリットの進行方向とスリットピッチの本数を検知することを特徴とする相対位置検出装置。
引用特許：
審査官引用 (6件)
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