特許
J-GLOBAL ID：200903093502449293
露光方法及び露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-118966
公開番号（公開出願番号）：特開平7-326561
出願日： 1994年05月31日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：
【要約】【目的】従来の露光波長及び光学系をほとんど変えずに、投影光学系の解像限界を超える高解像のパターンを形成する。【構成】被投影原版のパターンを投影光学系によって所定の感光素材上に投影する投影露光方法において、前記感光素材上に透過光強度が入射光強度に対して非線型な特性を持つ透過膜を設け、該透過膜上での光強度分布が異なる複数の露光を行う。具体的には、被投影原版として複数のパターンを用い、例えば第1パターンを有する第1被投影原版と第2パターンを有する第2被投影原版とを用い、非線型な特性を持つ透過膜を設けた感光素材に対して第1被投影原版による第1露光後に第2被投影原版による第2露光を行うことにより、感光素材に第1パターン及び第2パターンよりも微細なパターンを形成する。
請求項（抜粋）：
被投影原版のパターンを投影光学系によって所定の感光素材上に投影する投影露光方法において、前記感光素材上に透過光強度が入射光強度に対して非線型な特性を持つ透過膜を設け、該透過膜上での光強度分布が異なる複数回の露光を行うことにより、投影光学系の解像限界を超える高解像のパターンの形成を可能とすることを特徴とする露光方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03B 27/72
, G03F 7/20 521
