特許
J-GLOBAL ID：200903093528197241

処理装置及び処理方法

発明者：
溝崎 健吾

溝崎 健吾 について

, 
吉田 正明

吉田 正明 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-045613
公開番号（公開出願番号）：特開平9-219356
出願日： 1996年02月08日
公開日（公表日）： 1997年08月19日
要約：
【要約】【課題】 オゾンを有効に利用して被処理体に付着した有機汚染物を除去すること。【解決手段】 有機汚染物の付着したLCD基板Gを保持手段30の載置台31にて保持し、このLCD基板Gと載置台31を収容する処理室21を外気と遮断した後、載置台31を紫外線ランプ22側の紫外線照射位置に移動する。そして、ランプシャッタ25を開放し、紫外線ランプ22から照射されるの紫外線照射により生成されるオゾンをLCD基板Gに照射して、LCD基板Gに付着する有機汚染物を分解除去する。また、上記オゾンの照射中に第1の排気手段41にて処理室21内のオゾンを外部に排気し、ランプシャッタ25が閉じた状態でランプ室23内に発生するオゾンを第2の排気手段42により外部に排気する。
請求項（抜粋）：
有機汚染物の付着した被処理体を保持する保持手段と、上記被処理体及び保持手段を収容する外気と遮断可能な処理室と、上記被処理体に対して紫外線を照射する紫外線照射手段と、上記処理室と紫外線照射手段との間に設けられた開口を開閉する開閉手段と、上記紫外線照射手段の紫外線照射により生成され、上記処理室内に存在するオゾンを排気する第1の排気手段と、上記処理室外の紫外線照射手段側に発生するオゾンを排気する第2の排気手段と、を具備することを特徴とする処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/304 341
FI (4件)：
H01L 21/30 563 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/304 341 D
引用特許：
審査官引用 (3件)

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