特許

J-GLOBAL ID：200903093567803175

真空処理装置

発明者： 吉岡 健 ,  空岡 稔 ,  川崎 義直
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-013272
公開番号（公開出願番号）：特開平9-213764
出願日： 1996年01月29日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：

【要約】【課題】試料の大口径化に対応しつつ、製造コストの上昇を抑えることのできる真空処理装置を提供する。【解決手段】試料を真空処理する処理室と、ロ-ド側ロ-ドロック室及びアンロ-ド側ロ-ドロック室と、処理室と前記両ロ-ドロック室の間で試料を搬送する真空搬送手段が配置された真空搬送室とが設けられた真空処理装置において、両ロードロック室が近接して配置され、両ロードロック室と真空搬送室37が一体的に成形されており、搬送室は該真空搬送室の周囲に不等角の間隔で配置された、処理室接続用の複数個の開口37A〜37Dを備えており、複数個の開口間の角度は、ロードロック室から遠い側の開口間で広く(β、γ)、前記ロードロック室から近い位置にある開口間で狭い(α)。

請求項（抜粋）：

試料を真空処理する処理室と、ロ-ド側ロ-ドロック室及びアンロ-ド側ロ-ドロック室と、真空搬送室と、該真空搬送室を経由して前記処理室と前記両ロ-ドロック室の間で前記試料を搬送する真空搬送手段とを備えた真空処理装置において、前記真空搬送室はその周囲に不等角の間隔で設けられた、前記処理室接続用の複数個の開口を備えており、前記複数個の開口間の角度は、前記両ロードロック室から遠い側の前記開口間で広く、前記ロードロック室から近い位置にある前記開口間で狭いことを特徴とする真空処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/02

FI (2件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/02 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 真空処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-132178   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平3-284541
  
• 真空処理装置及び真空処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-303129   出願人：テル・バリアン株式会社