特許
J-GLOBAL ID：200903093809377630

イオンビーム加工方法および装置

発明者：
沼田 敦史

沼田 敦史 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-209366
公開番号（公開出願番号）：特開2008-034324
出願日： 2006年08月01日
公開日（公表日）： 2008年02月14日
要約：
【課題】イオンビームによる加工プログラムの作成を効率的に行う。【解決手段】被加工物である光学素子材料7を搭載する駆動ステージ6に、イオンビーム3の電流状態を測定するファラデーカップ8を設置する。光学素子材料7の加工におけるイオンビーム3による単位時間あたりの除去量および除去形状をファラデーカップ8の出力から算出し、所望の加工形状を得るための加工プログラムを作成する。この加工プログラムに従って、光学素子材料7を加工するときのイオンビーム3の照射量等を制御する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
加工プログラムに従って制御されるイオンビームによって真空チャンバー内で被加工物を加工するイオンビーム加工方法において、 前記真空チャンバー内で前記イオンビームの電流を測定することによって、前記イオンビームによる単位時間あたりの除去量および除去形状を検知する工程と、 前記イオンビームによる前記単位時間あたりの除去量および除去形状に基づいて前記加工プログラムを作成する工程と、を有することを特徴とするイオンビーム加工方法。
IPC (2件)：
H01J 37/317 ,  H01J 37/305
FI (2件)：
H01J37/317 D ,  H01J37/305 A
Fターム (3件)：
5C034BB10 ,  5C034DD07 ,  5C034DD09
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)

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