特許
J-GLOBAL ID：200903093853308440

膜厚測定方法および装置

発明者：
有持 賢志

有持 賢志 について


出願人/特許権者：
富士通カンタムデバイス株式会社

富士通カンタムデバイス株式会社 について


代理人 (1件)： 平戸 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-095143
公開番号（公開出願番号）：特開2002-296013
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：
【要約】【課題】薄膜が存在する領域と存在しない領域を有する薄膜パターンに偏光状態が既知の測定光を入射し、その反射光の偏光状態の変化から薄膜パターンの膜厚を光学測定する場合において、薄膜パターンの微細化に伴い、測定光が薄膜の存在する領域と存在しない領域の両領域を含む領域に入射してしまう場合であっても、薄膜パターンの実膜厚値を測定できる膜厚測定方法を提供する。【解決手段】エリプソメータ14を使用し、レジストが存在する領域とレジストを除去した領域の両領域を含む領域に測定光16を入射してレジストパターン11の膜厚を測定した後、レジストパターン11のパターン密度とエリプソメータ14により得られる膜厚測定値から決まる換算係数を使用し、エリプソメータ14により得られる膜厚測定値を実膜厚値に換算する。
請求項（抜粋）：
薄膜が存在する領域と存在しない領域を有する薄膜パターンの膜厚を測定する膜厚測定方法であって、薄膜が存在する領域と存在しない領域の両領域を含む領域に偏光状態が既知の測定光を入射し、その反射光の偏光状態の変化から前記薄膜パターンの膜厚を光学測定する工程と、前記薄膜パターンのパターン密度と前記光学測定により得られる膜厚測定値から決まる換算係数を使用し、前記光学測定により得られる膜厚測定値を実膜厚値に換算する工程を含むことを特徴とする膜厚測定方法。
IPC (2件)：
G01B 11/06 ,  H01L 21/66
FI (2件)：
G01B 11/06 Z ,  H01L 21/66 P
Fターム (16件)：
2F065AA30 ,  2F065BB02 ,  2F065BB18 ,  2F065BB22 ,  2F065CC31 ,  2F065FF49 ,  2F065LL00 ,  2F065QQ00 ,  4M106AA20 ,  4M106BA04 ,  4M106CA48 ,  4M106DH03 ,  4M106DH12 ,  4M106DH31 ,  4M106DJ12 ,  4M106DJ18
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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