特許

J-GLOBAL ID：200903093860740307

フィルター付ペリクル

発明者： 松岡 卓 ,  久保田 芳宏
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-222944
公開番号（公開出願番号）：特開平9-068792
出願日： 1995年08月31日
公開日（公表日）： 1997年03月11日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 外部の気圧変化によるペリクルの膨らみやへこみを解消するための気圧調節孔、この気圧調節孔からの異物の侵入を防止するフィルターを設けたフィルター付ペリクルにおいて、異物の侵入を防止し、フィルター内部の異物のペリクル内部への侵入を防止したフィルター付ペリクルを提供する。【解決手段】 本発明のフィルター付ペリクルは、ペリクルフレームに気圧調整用の通気孔を少なくとも1つ設けてなるペリクルにおいて、該通気孔を覆うようにペリクルフレームの貼り付けられるフィルターの少なくとも一部が、前記貼り付けに用いられる粘着剤とは別に用いられた粘着剤により湿潤されていることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

ペリクルフレームに気圧調整用の通気孔を少なくとも1つ設けてなるペリクルにおいて、該通気孔を覆うようにペリクルフレームが貼り付けられるフィルターの少なくとも一部が、前記貼り付けに用いられる粘着剤とは別に用いられた粘着剤により湿潤されていることを特徴とするフィルター付ペリクル。

IPC (2件)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/14 K ,  H01L 21/30 502 P

引用特許：

審査官引用 (4件)

• リソグラフイ-用ペリクル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-183251   出願人：信越化学工業株式会社
• フオトマスク及び半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-272752   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 特表平5-508487
  
• 特開平3-166545