特許
J-GLOBAL ID:200903093877420624
シリカ・チタニア極端紫外線光学素子の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤村 元彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-311023
公開番号(公開出願番号):特開2004-131373
出願日: 2003年09月03日
公開日(公表日): 2004年04月30日
要約:
【課題】シリカ及びチタニアを含むガラスから形成される超低膨脹極端紫外線素子を製造する新規な方法を提供する。【解決手段】チタニア含有シリカ粉体を含む水溶性ゾルを提供するステップと、該ゾルからチタニアが均一に分布したゲル状チタニア含有シリカ体を形成するステップと、該ゲルを乾燥させて乾燥チタニア含有シリカ体を提供するステップと、該チタニア含有シリカ体を十分な温度に加熱してガラス体を形成するステップとからなる。【選択図】なし
請求項(抜粋):
固相のチタニア含有シリカ粉体を含む水溶性ゾルを与えるゾル提供ステップと、
前記ゾルからチタニアが均一に分布したゲル状チタニア含有シリカを形成するステップと、
前記ゲル状チタニア含有シリカを乾燥させて乾燥チタニア含有シリカ体を提供するステップと、
前記チタニア含有シリカ体を十分な温度に加熱してガラス体を形成する加熱ステップと、からなることを特徴とする極端紫外線光学素子の製造方法。
IPC (4件):
C03B8/02
, C03B20/00
, C03C3/06
, G02B1/00
FI (6件):
C03B8/02 A
, C03B8/02 D
, C03B8/02 J
, C03B20/00 F
, C03C3/06
, G02B1/00
Fターム (60件):
4G014AH02
, 4G014AH04
, 4G014AH06
, 4G062AA04
, 4G062BB02
, 4G062CC01
, 4G062CC05
, 4G062DA08
, 4G062DB01
, 4G062DC01
, 4G062DD01
, 4G062DE01
, 4G062DF01
, 4G062EA01
, 4G062EA10
, 4G062EB01
, 4G062EC01
, 4G062ED01
, 4G062EE01
, 4G062EF01
, 4G062EG01
, 4G062FA01
, 4G062FB03
, 4G062FC01
, 4G062FD01
, 4G062FE01
, 4G062FF01
, 4G062FG01
, 4G062FH01
, 4G062FJ01
, 4G062FK01
, 4G062FL01
, 4G062GA01
, 4G062GA10
, 4G062GB01
, 4G062GC01
, 4G062GD01
, 4G062GE01
, 4G062HH01
, 4G062HH03
, 4G062HH05
, 4G062HH07
, 4G062HH09
, 4G062HH11
, 4G062HH13
, 4G062HH15
, 4G062HH17
, 4G062HH20
, 4G062JJ01
, 4G062JJ03
, 4G062JJ05
, 4G062JJ07
, 4G062JJ10
, 4G062KK01
, 4G062KK03
, 4G062KK05
, 4G062KK07
, 4G062KK10
, 4G062MM02
, 4G062NN30
引用特許:
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