特許
J-GLOBAL ID:200903093923125640
希ガスの回収方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
木戸 一彦 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-330228
公開番号(公開出願番号):特開平11-157814
出願日: 1997年12月01日
公開日(公表日): 1999年06月15日
要約:
【要約】【課題】 希ガス使用設備から排出される希ガスを効率よく回収することができ、しかも、希ガス使用設備に対して所定純度の希ガスを安定して供給することができるとともに、希ガスの消費量を低減することができる希ガスの回収方法及び装置を提供する。【解決手段】 減圧下で運転する希ガス使用設備から排出される排ガス中の希ガスを回収するにあたり、前記排ガスの回収系への導入と排気系への排出とを減圧状態で切換えるとともに、この切換え操作を、排ガス中に含まれる不純物成分の濃度や希ガス使用設備の運転状態に応じて行う。
請求項(抜粋):
減圧下で運転する希ガス使用設備から排出される排ガス中の希ガスを回収するにあたり、前記排ガスの回収系への導入と排気系への排出との切換え操作を、前記排ガス中に含まれる不純物成分の濃度に応じて行うことを特徴とする希ガスの回収方法。
IPC (2件):
FI (4件):
C01B 23/00 F
, C01B 23/00 L
, C01B 23/00 Z
, B01D 53/34 120 A
引用特許:
審査官引用 (3件)
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半導体製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-057970
出願人:株式会社東芝
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ダイヤモンドの気相合成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-303350
出願人:株式会社不二越
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特開昭63-239105
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