特許
J-GLOBAL ID:200903093932385094

エキシマレーザ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 韮澤 弘 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-289524
公開番号(公開出願番号):特開2000-124531
出願日: 1998年10月12日
公開日(公表日): 2000年04月28日
要約:
【要約】【課題】 ビーム径拡大プリズムとリトロー配置の反射型回折格子とからなる狭帯域化光学系を用いるエキシマレーザ装置において、温度変動があっても発振中心波長変動の極力少ない狭帯域化光学系の構成。【解決手段】 リトロー配置の反射型回折格子3とこの反射型回折格子3の入射側に配置されたビーム径拡大光学系5とからなる狭帯域化光学系6を備えたエキシマレーザ装置において、ビーム径拡大光学系5が、少なくとも1個の蛍石からなるビーム径拡大プリズム11、12と少なくとも1個の合成石英からなるビーム径拡大プリズム13とを備えており、蛍石からなるビーム径拡大プリズム11、12と合成石英からなるビーム径拡大プリズム13の個数、及び、配置方向を考慮して温度変化に対する発振中心波長の変化率を小さくさせた。
請求項(抜粋):
リトロー配置の反射型回折格子とこの反射型回折格子の入射側に配置されたビーム径拡大光学系とからなる狭帯域化光学系を備えたエキシマレーザ装置において、前記ビーム径拡大光学系が、少なくとも1個の蛍石からなるビーム径拡大プリズムと少なくとも1個の合成石英からなるビーム径拡大プリズムとを備えており、前記の蛍石からなるビーム径拡大プリズムと合成石英からなるビーム径拡大プリズムの個数、及び、配置方向を考慮して温度変化に対する発振中心波長の変化率を小さくさせたことを特徴とするエキシマレーザ装置。
IPC (2件):
H01S 3/1055 ,  H01S 3/225
FI (2件):
H01S 3/1055 ,  H01S 3/223 E
Fターム (15件):
5F071AA06 ,  5F071DD04 ,  5F071HH03 ,  5F071HH05 ,  5F071JJ05 ,  5F071JJ10 ,  5F072AA06 ,  5F072HH03 ,  5F072HH05 ,  5F072JJ05 ,  5F072JJ13 ,  5F072KK07 ,  5F072KK09 ,  5F072KK18 ,  5F072MM08
引用特許:
審査官引用 (4件)
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