特許
J-GLOBAL ID：200903093964150870

光断層画像化装置

発明者：
黒岩 果林

黒岩 果林 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-268415
公開番号（公開出願番号）：特開2008-086414
出願日： 2006年09月29日
公開日（公表日）： 2008年04月17日
要約：
【課題】測定光と参照光の干渉光の周波数解析を行うことにより断層画像を取得する光コヒーレンストモグラフィー計測において、所望のタイミングで、自動的に測定光と参照光の光路長差を調整する。【解決手段】光プローブ230において、測定光L1を照射する位置を微少に移動する毎に、断層情報取得部250は、光路長調整用の断層情報を取得する。リアルタイム光路長調整部253は、光路長調整用の断層情報に基づいて、基準点である光プローブ230の窓入射点16aにおいて、測定光L1+反射光L3の光路長と参照光L2の光路長とが一致するように、光路長変更手段220の反射ミラー22を移動し、参照光Lの光路長を調整する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光を射出する光源ユニットと、 該光源ユニットから射出された前記光を測定光と参照光とに分割する光分割手段と、 該光分割手段により分割された前記測定光を、測定対象に、走査しながら照射する照射手段と、 前記測定対象で反射した反射光と前記参照光とを合波する合波手段と、 該合波手段により合波された前記反射光と前記参照光との干渉光を検出する第1の干渉光検出手段と、 該干渉光検出手段により検出された前記干渉光を周波数解析することにより前記測定対象の各走査位置における光断層情報を取得する断層情報取得手段とを有する光断層画像化装置において、 前記干渉光を検出する第2の干渉光検出手段と、 該第2の干渉光検出手段の検出結果に基づいて、前記測定光、前記反射光または前記参照光の光路長を調整する光路長調整手段を備えることを特徴とする光断層画像化装置。
IPC (5件)：
A61B 1/00 ,  A61B 10/00 ,  G01N 21/17 ,  G01B 9/02 ,  G02B 23/24
FI (5件)：
A61B1/00 300D ,  A61B10/00 E ,  G01N21/17 625 ,  G01B9/02 ,  G02B23/24 C
Fターム (47件)：
2F064AA09 ,  2F064DD01 ,  2F064DD02 ,  2F064EE01 ,  2F064FF01 ,  2F064FF03 ,  2F064FF08 ,  2F064GG02 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064GG24 ,  2F064GG44 ,  2F064GG49 ,  2F064GG52 ,  2F064HH02 ,  2F064HH03 ,  2F064HH06 ,  2F064HH07 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ02 ,  2F064JJ06 ,  2F064JJ15 ,  2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059DD12 ,  2G059EE10 ,  2G059EE12 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059GG03 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ17 ,  2G059KK04 ,  2G059LL01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09 ,  2G059NN01 ,  2H040BA00 ,  2H040BA15 ,  2H040CA11 ,  2H040CA22 ,  2H040GA01 ,  4C061CC06 ,  4C061HH51
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 光イメージング装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-374702   出願人：オリンパス光学工業株式会社
  • 米国特許第5565986号明細書
  • 線条体クリップ
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-251869   出願人：古河電気工業株式会社
審査官引用 (2件)

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