特許

J-GLOBAL ID：200903094053451810

現像処理装置及び現像処理方法

発明者： 稲田 博一 ,  坂本 和生 ,  錦戸 修一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-281221
公開番号（公開出願番号）：特開2001-102292
出願日： 1999年10月01日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：

【要約】【課題】 現像液をウエハ上に液盛りする際に発生していた種々の問題を解決して良好な現像を行なうことができる現像処理方法及び現像処理装置を提供する。【解決手段】 パターンが露光されたフォトレジスト膜を有するウエハWに現像液を供給してフォトレジスト膜のパターン形成領域を現像処理する現像処理装置であって、ウエハを略水平に保持するウエハ保持部3と、現像液をウエハWの全面に亘って供給し、前記パターン形成領域を現像液の液膜で覆う現像液供給ユニット4と、ウエハW上に供給された現像液を加熱することで現像の進行を制御する遠赤外線ヒータ6とを有する。

請求項（抜粋）：

パターンが露光されたフォトレジスト膜を有する被処理基板に現像液を供給してフォトレジスト膜のパターン形成領域を現像処理する現像処理装置であって、被処理基板を略水平に保持する基板保持機構と、現像液を前記被処理基板の全面に亘って供給し、前記パターン形成領域を現像液の液膜で覆う現像液供給機構と、被処理基板上に供給された現像液の温度を制御する現像液温度制御機構とを有することを特徴とする現像処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

FI (2件)：

G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 F

Fターム (5件)：

2H096AA25 ,  2H096GA30 ,  2H096GB02 ,  5F046LA13 ,  5F046LA14

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-124017
  
• 特開平4-098824
  
• 現像処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-107167   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 現像方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-079577   出願人：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社