特許

J-GLOBAL ID：200903094119007372

両面研磨用研磨布のドレッシング方法

発明者： 田中 好一
出願人/特許権者： 株式会社スーパーシリコン研究所
代理人 (1件)： 小倉 亘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-233975
公開番号（公開出願番号）：特開2002-046058
出願日： 2000年08月02日
公開日（公表日）： 2002年02月12日
要約：

【要約】【目的】 研磨加工中に生じる上下定盤1u,1dの変形による影響を打ち消した表面状態に研磨布2u,2dをドレッシングし、ウェーハ4を平坦度に優れた形状に研磨仕上げする。【構成】 研磨布2u,2dを貼り付けた上下定盤1u,1dの間に挟んだウェーハ4の研磨加工に先立って、研磨加工時に生じる上下定盤1u,1dの変形に等しい又は該変形に類似する変形を上下定盤1u,1dに与え、上下定盤1u,1dの間に挟んだドレッシング工具3で研磨布2u,2dの研磨作用面を修正する。研磨加工時に上下定盤1u,1dに生じる変形にほぼ等しい変形は、ウェーハ4の研磨加工時に上下定盤1u,1dが受ける熱負荷や応力負荷にほぼ等しい熱負荷又は応力負荷をドレッシング時の上下定盤1u,1dに加えることにより実現される。

請求項（抜粋）：

研磨布を貼り付けた上下定盤の間に挟んだウェーハ両面の研磨加工に先立ち、研磨加工時に上下定盤に生じる変形に等しい又は該変形に類似する変形を上下定盤に与え、上下定盤の間に挟んだドレッシング工具で研磨布の研磨作用面を修正することを特徴とする両面研磨用研磨布のドレッシング方法。

IPC (3件)：

B24B 37/00 ,  B24B 37/04 ,  B24B 53/02

FI (4件)：

B24B 37/00 A ,  B24B 37/00 J ,  B24B 37/04 F ,  B24B 53/02

Fターム (15件)：

3C047AA34 ,  3C047BB08 ,  3C047BB10 ,  3C058AA07 ,  3C058AA11 ,  3C058AA16 ,  3C058AA19 ,  3C058AB01 ,  3C058AB06 ,  3C058AB08 ,  3C058BA02 ,  3C058BA08 ,  3C058CB01 ,  3C058DA06 ,  3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ポリッシング装置および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-151881   出願人：株式会社荏原製作所
• 両面研磨装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-055346   出願人：不二越機械工業株式会社
• 研削加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-148424   出願人：古河電気工業株式会社
• 特開昭61-090868