特許
J-GLOBAL ID:200903094186511263

Nd3Ga5SiO14単結晶の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三澤 正義
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-268884
公開番号(公開出願番号):特開平11-106295
出願日: 1997年10月01日
公開日(公表日): 1999年04月20日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、良好な結晶品質を有するNd3Ga5SiO14単結晶の製造方法を提供することである。【解決手段】 ルツボ2にNd3Ga5SiO14単結晶の原料を収容し、RF電流供給源11から高周波誘導コイル1に高周波電流を供給してルツボ2を誘導加熱し、Nd3Ga5SiO14単結晶の原料を融解して融液3とし、融液3を所定温度に維持する。また、アルゴンに2vol%の酸素を混入した雰囲気をチャンバー14内に形成する。さらに、引き上げ駆動装置10により引き上げ軸7を下げ、引き上げ軸7の下端に取り付けた種子結晶5のZ方位を融液3にその液面に垂直に引き上げ方向と一致するようにつける。その後に、引き上げ軸7を回転させながら2.8mm/h以下の育成速度で種子結晶5を引き上げる。
請求項(抜粋):
Nd3Ga5SiO14単結晶をCz法によって製造するNd3Ga5SiO14単結晶の製造方法において、Nd3Ga5SiO14単結晶の育成速度が2.8mm/時間以下であることを特徴とするNd3Ga5SiO14単結晶の製造方法。
IPC (4件):
C30B 29/28 ,  C30B 15/20 ,  H01L 41/18 ,  H01L 41/24
FI (4件):
C30B 29/28 ,  C30B 15/20 ,  H01L 41/18 101 A ,  H01L 41/22 A
引用特許:
審査官引用 (2件)

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