基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：大坪隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-372152
公開番号（公開出願番号）：特開2001-179268
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
要約：

【要約】【課題】オゾン含有溶液の排液からオゾンを除去することにより、排液経路の腐食やオゾンガスの漏出を防止することができる基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】基板処理装置1は、オゾン水により基板を処理する処理ユニット2と、この処理ユニット2から排出されたオゾンを含む排液からオゾンを除去するオゾン除去ユニット3とから構成される。処理ユニット2は、オゾン水発生ユニット7から供給されたオゾン水により基板を処理するためのものである。一方、オゾン除去ユニット3は、処理ユニット2から排出されたオゾンを含む排液に、過酸化水素貯留槽5から供給された過酸化水素水を混合することにより、排液中のオゾンを分解するためのものである。

請求項（抜粋）：

オゾン含有溶液により基板を処理する処理ユニットと、前記処理ユニットから排出されたオゾンを含む排液からオゾンを除去するオゾン除去ユニットと、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

C02F 1/70 ZAB , C02F 1/20 , H01L 21/306

FI (3件)：

C02F 1/70 ZAB Z , C02F 1/20 A , H01L 21/306 J

Fターム (20件)：

4D037AA13 , 4D037AB11 , 4D037BA23 , 4D037BB05 , 4D050AA13 , 4D050AB32 , 4D050BB09 , 4D050BC10 , 4D050BD02 , 4D050BD08 , 4D050CA13 , 5F043BB27 , 5F043DD30 , 5F043EE06 , 5F043EE27 , 5F043EE32 , 5F043EE33 , 5F043EE37 , 5F043EE40 , 5F043GG10

引用特許：

審査官引用 (9件)

オゾン水処理方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-189252 出願人：ペルメレック電極株式会社
オゾン水排水の処理方法及び処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-101984 出願人：株式会社フロンテック
特開昭55-149688

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