特許
J-GLOBAL ID:200903094335151232

ウェーハの平面加工装置及びその平面加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松浦 憲三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-040667
公開番号(公開出願番号):特開2002-246347
出願日: 2001年02月16日
公開日(公表日): 2002年08月30日
要約:
【要約】【課題】本発明は、吸着搬送手段からテーブルにウェーハを受け渡す際におけるウェーハの損傷を防止する【解決手段】本発明は、まず、吸着盤80で吸着保持した平面加工前のウェーハ26をテーブル48の上方位置に位置させる。次に、テーブル48でウェーハ26を真空吸引することにより、その吸引力によってテーブル48を、ウェーハ26を吸着する方向に上昇移動させてウェーハ26をテーブル48で真空吸着する。次いで、吸着盤80によるウェーハ26の吸着保持を解除することにより、ウェーハ26をテーブル48のみで吸着保持する。
請求項(抜粋):
ウェーハの一方面を吸着保持するテーブルと、ウェーハを吸着保持する吸着盤を有し前記テーブルにウェーハを搬送する吸着搬送手段と、該テーブルに一方面が吸着保持されたウェーハの他方面を加工する加工部とを備えたウェーハの平面加工装置において、前記テーブルは、装置本体に上下移動自在に設けられるとともに、前記吸着盤に吸着保持された加工前のウェーハが、該テーブルの上方位置に位置した際に真空吸引されることにより、その吸引力によってウェーハを吸着する方向に上昇移動してウェーハを真空吸着し、前記吸着搬送手段は、前記ウェーハが前記テーブルに真空吸着されると、前記吸着盤によるウェーハの吸着保持を解除することを特徴とするウェーハの平面加工装置。
IPC (4件):
H01L 21/304 622 ,  B24B 37/04 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/68
FI (5件):
H01L 21/304 622 L ,  B24B 37/04 Z ,  B65G 49/07 G ,  H01L 21/68 B ,  H01L 21/68 P
Fターム (28件):
3C058AB03 ,  3C058CA01 ,  3C058DA17 ,  5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031GA08 ,  5F031GA24 ,  5F031GA32 ,  5F031GA35 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA02 ,  5F031HA13 ,  5F031HA52 ,  5F031HA59 ,  5F031JA10 ,  5F031JA32 ,  5F031JA47 ,  5F031LA12 ,  5F031LA15 ,  5F031MA22 ,  5F031PA20
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 特開昭64-024440
  • 特開平4-014849
  • ウエハの受け渡し装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-063928   出願人:株式会社岡本工作機械製作所
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