特許
J-GLOBAL ID：200903094504502040

電気光学装置、投射型表示装置、および電気光学装置の製造方法

発明者：
宮澤 清

宮澤 清 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-322805
公開番号（公開出願番号）：特開2003-131591
出願日： 2001年10月19日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
要約：
【要約】【課題】 強い光が対向基板側から入射した場合でも発熱を抑え、かつ、迷光の発生も防止することができる電気光学装置、投射型表示装置、および電気光学装置の製造方法を提供すること。【解決手段】 投射型表示装置のライトバルブとして用いられる液晶装置1において、対向基板200には、対向電極21、マイクロレンズ500、遮光膜23が形成され、遮光膜23は、光反射率の高いアルミニウム膜からなる高反射層231と、この高反射層231の上層側に光反射率の低い窒化チタン膜から形成された低反射層232とを備えている。対向基板200側に照射された強い光は高反射層231で反射されるので、発熱を抑えることができ、かつ、戻り光などは低反射層232で吸収されるので迷光となってTFT30に向かうことがない。
請求項（抜粋）：
画素電極および画素スイッチングの薄膜トランジスタが複数、マトリクス状に形成されたTFTアレイ基板と、透明基板の前記TFTアレイ基板と対向する表面側に、前記画素電極と対向する対向電極、および前記画素電極同士の境界領域に対向する遮光膜が形成された対向基板と、該対向基板と前記TFTアレイ基板との間に保持された電気光学物質とを有する電気光学装置において、前記遮光膜は、光反射率の高い材料から形成された高反射層と、該高反射層の上層側に当該高反射層よりも光反射率の低い材料から形成された低反射層とを備えていることを特徴とする電気光学装置。
IPC (6件)：
G09F 9/30 349 ,  G09F 9/30 330 ,  G09F 9/30 338 ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1368
FI (7件)：
G09F 9/30 349 C ,  G09F 9/30 330 Z ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 349 D ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1368
Fターム (34件)：
2H088EA14 ,  2H088EA15 ,  2H088HA08 ,  2H088HA14 ,  2H088MA02 ,  2H088MA04 ,  2H091FA29Y ,  2H091FA34Y ,  2H091FB06 ,  2H091FB08 ,  2H091FD06 ,  2H091GA13 ,  2H091LA03 ,  2H092GA20 ,  2H092JA24 ,  2H092JB51 ,  2H092NA01 ,  2H092PA07 ,  2H092PA09 ,  5C094AA16 ,  5C094BA03 ,  5C094BA16 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094DA14 ,  5C094DA15 ,  5C094DB04 ,  5C094EA04 ,  5C094EA06 ,  5C094EA07 ,  5C094ED01 ,  5C094ED11 ,  5C094ED15 ,  5C094FB12
引用特許：
審査官引用 (6件)
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